This HTML5 document contains 47 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n20http://localhost/temp/predkladatel/
n19http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F00216275%3A25310%2F05%3A00003144%21RIV08-MSM-25310___/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n9http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F00216275%3A25310%2F05%3A00003144%21RIV08-MSM-25310___
rdf:type
n11:Vysledek skos:Concept
dcterms:description
Práce se zabývá tvorbou mikro- a nanostruktur v amorfních vrstvách chalkogenidů na bázi As a Ge. Je zde ukázáno, že expozice vhodným zářením může indukovat výrazné změny optických vlastnoatí a chemické odolnosti vůči alkáliím. V práci je diskutován mechanismus selektivního leptání a vliv podmínek expozice na leptací křivky. Je demonstrována výroba difrakčních prvků v těchto materiálech. This paper deals with fabrication of micro- and nanostructures in thin films of amorphous As- and Ge- based chalcogenides. It is shown that exposure to band gap and/or to UV light as well as to electron beam can result in significant changes in optical properties and chemical resistance to alkaline solvents. Mechanism of high selective etching of As-based films is discussed. The influence of exposure conditions on the etching characteristics are investigated. Fabrication of some diffractive optical elements is demonstrated Práce se zabývá tvorbou mikro- a nanostruktur v amorfních vrstvách chalkogenidů na bázi As a Ge. Je zde ukázáno, že expozice vhodným zářením může indukovat výrazné změny optických vlastnoatí a chemické odolnosti vůči alkáliím. V práci je diskutován mechanismus selektivního leptání a vliv podmínek expozice na leptací křivky. Je demonstrována výroba difrakčních prvků v těchto materiálech.
dcterms:title
Tvorba mikro- a nanostruktur v chalkogenidových sklech Fabrication of micro- and nanostructures in chalcogenide glasses. Tvorba mikro- a nanostruktur v chalkogenidových sklech
skos:prefLabel
Fabrication of micro- and nanostructures in chalcogenide glasses. Tvorba mikro- a nanostruktur v chalkogenidových sklech Tvorba mikro- a nanostruktur v chalkogenidových sklech
skos:notation
RIV/00216275:25310/05:00003144!RIV08-MSM-25310___
n3:strany
172-177
n3:aktivita
n15:Z
n3:aktivity
Z(MSM0021627501)
n3:dodaniDat
n9:2008
n3:domaciTvurceVysledku
n14:1620290
n3:druhVysledku
n7:D
n3:duvernostUdaju
n16:S
n3:entitaPredkladatele
n4:predkladatel
n3:idSjednocenehoVysledku
547458
n3:idVysledku
RIV/00216275:25310/05:00003144
n3:jazykVysledku
n12:cze
n3:klicovaSlova
chalcogenide glass; selective etching; photoinduced phenomenon; diffractive optical elements
n3:klicoveSlovo
n6:photoinduced%20phenomenon n6:selective%20etching n6:chalcogenide%20glass n6:diffractive%20optical%20elements
n3:kontrolniKodProRIV
[4C924C12113A]
n3:mistoKonaniAkce
Luhačovice
n3:mistoVydani
Praha
n3:nazevZdroje
Sklář a keramik 55 C
n3:obor
n18:CA
n3:pocetDomacichTvurcuVysledku
1
n3:pocetTvurcuVysledku
4
n3:rokUplatneniVysledku
n9:2005
n3:tvurceVysledku
Poehlmann, R. Fišerová, A. Schroeter, S. Vlček, Miroslav
n3:typAkce
n8:CST
n3:zahajeniAkce
2005-11-10+01:00
n3:zamer
n17:MSM0021627501
s:issn
0037-637X
s:numberOfPages
6
n19:hasPublisher
Vysoká škola chemicko-technologická v Praze
n20:organizacniJednotka
25310