This HTML5 document contains 52 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n15http://localhost/temp/predkladatel/
n16http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00012755%21RIV10-MSM-14310___/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n9http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F00216224%3A14310%2F05%3A00012755%21RIV10-MSM-14310___
rdf:type
skos:Concept n10:Vysledek
dcterms:description
V tomto článku je popsána optická metoda umožňující měření mechanického napětí v tenkých vrstvách. Tato metoda je založena na určování poloměrů zakřivení deformovaných podložek, která vznikají v důsledku existence napětí ve vrstvách vytvořených na těchto podložkách. Hodnoty napětí jsou počítány pomocí modifikované Stoneyovy rovnice. Hodnoty tlouštěk tenkých vrstev, které jsou rovněž potřebné pro výpočet těchto napětí, jsou určeny pomocí metody založené na interpretaci experimentálních dat získaných v rámci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie. Tato kombinovaná optická metoda je využita pro určení hodnot mechanických napětí ve vrstvách DLC (diamond-like carbon) vytvořených na podložkách z monokrystalu křemíku, které obsahují příměsy Si a O. V práci je také studována závislost hodnot napětí v těchto vrstvách na hodnotách poměru průtoků hexamethyldisiloxanu (HMDSO) a metanu. V tomto článku je popsána optická metoda umožňující měření mechanického napětí v tenkých vrstvách. Tato metoda je založena na určování poloměrů zakřivení deformovaných podložek, která vznikají v důsledku existence napětí ve vrstvách vytvořených na těchto podložkách. Hodnoty napětí jsou počítány pomocí modifikované Stoneyovy rovnice. Hodnoty tlouštěk tenkých vrstev, které jsou rovněž potřebné pro výpočet těchto napětí, jsou určeny pomocí metody založené na interpretaci experimentálních dat získaných v rámci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické reflektometrie. Tato kombinovaná optická metoda je využita pro určení hodnot mechanických napětí ve vrstvách DLC (diamond-like carbon) vytvořených na podložkách z monokrystalu křemíku, které obsahují příměsy Si a O. V práci je také studována závislost hodnot napětí v těchto vrstvách na hodnotách poměru průtoků hexamethyldisiloxanu (HMDSO) a metanu. In this paper an optical method enabling us to measure the mechanical stress in thin films is decribed. This method is based on determination of the curvature radii of the substrates curved originating in consequence of the existence of the stresses inside the films created onto these substrates. The stess values are calculated using the modified Stoney formula. The thin film thicknesses needed for calculating the stresses are determined by means of the method based on interpretation of the experimental data obtained using multiple angle spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry. This combined optical method is utilized for determination of the mechanical stresses in the DLC (diamond-like carbon) films prepared onto the substrates consisting of silicon single crystal containing impurities Si and O. In the paper the dependence of the stress inside these films on the values of ratio of the flow rates of hexamethyldisoloxane (HMDSO) and methane.
dcterms:title
Měření mechanického napětí v tenkých vrstvách pomocí kombinované optické metody Measurement of mechanical stress in thin films using combined optical method Měření mechanického napětí v tenkých vrstvách pomocí kombinované optické metody
skos:prefLabel
Measurement of mechanical stress in thin films using combined optical method Měření mechanického napětí v tenkých vrstvách pomocí kombinované optické metody Měření mechanického napětí v tenkých vrstvách pomocí kombinované optické metody
skos:notation
RIV/00216224:14310/05:00012755!RIV10-MSM-14310___
n4:aktivita
n14:P n14:Z
n4:aktivity
P(GA101/04/2131), Z(MSM0021622411)
n4:cisloPeriodika
3
n4:dodaniDat
n9:2010
n4:domaciTvurceVysledku
n5:2026384 n5:2794187 n5:7830556 n5:5823803 n5:8419868 n5:9412921
n4:druhVysledku
n12:J
n4:duvernostUdaju
n18:S
n4:entitaPredkladatele
n17:predkladatel
n4:idSjednocenehoVysledku
529496
n4:idVysledku
RIV/00216224:14310/05:00012755
n4:jazykVysledku
n19:cze
n4:klicovaSlova
DLC thin films; mechanical stress; double-beam interferometry
n4:klicoveSlovo
n8:double-beam%20interferometry n8:mechanical%20stress n8:DLC%20thin%20films
n4:kodStatuVydavatele
CZ - Česká republika
n4:kontrolniKodProRIV
[6E06D9B539D1]
n4:nazevZdroje
Jemná mechanika a optika
n4:obor
n11:BM
n4:pocetDomacichTvurcuVysledku
6
n4:pocetTvurcuVysledku
6
n4:projekt
n16:GA101%2F04%2F2131
n4:rokUplatneniVysledku
n9:2005
n4:svazekPeriodika
50
n4:tvurceVysledku
Šiler, Martin Čudek, Vlastimil Franta, Daniel Buršíková, Vilma Ohlídal, Ivan Ohlídal, Miloslav
n4:zamer
n13:MSM0021622411
s:issn
0447-6441
s:numberOfPages
4
n15:organizacniJednotka
14310