This HTML5 document contains 58 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/typAkce/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n18http://purl.org/net/nknouf/ns/bibtex#
n14http://localhost/temp/predkladatel/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/riv/tvurce/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n22https://schema.org/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/zamer/
shttp://schema.org/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/RIV%2F00216208%3A11320%2F06%3A00002880%21RIV07-MSM-11320___/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/vysledek/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/klicoveSlovo/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/duvernostUdaju/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/jazykVysledku/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/aktivita/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/obor/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/riv/druhVysledku/
n7http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:RIV%2F00216208%3A11320%2F06%3A00002880%21RIV07-MSM-11320___
rdf:type
skos:Concept n20:Vysledek
dcterms:description
Měrení parametrů plazmatu v radiofrekvenčním pochodňovém výboji použitém pro depozici kysličníkových tenkých vrstev Measurements of the Plasma Parameters in RF Torch Discharge Used for Deposition of Oxide Thin Films Measurements of the Plasma Parameters in RF Torch Discharge Used for Deposition of Oxide Thin Films
dcterms:title
Měrení parametrů plazmatu v radiofrekvenčním pochodňovém výboji použitém pro depozici kysličníkových tenkých vrstev Measurements of the Plasma Parameters in RF Torch Discharge Used for Deposition of Oxide Thin Films Measurements of the Plasma Parameters in RF Torch Discharge Used for Deposition of Oxide Thin Films
skos:prefLabel
Measurements of the Plasma Parameters in RF Torch Discharge Used for Deposition of Oxide Thin Films Měrení parametrů plazmatu v radiofrekvenčním pochodňovém výboji použitém pro depozici kysličníkových tenkých vrstev Measurements of the Plasma Parameters in RF Torch Discharge Used for Deposition of Oxide Thin Films
skos:notation
RIV/00216208:11320/06:00002880!RIV07-MSM-11320___
n4:strany
108;113
n4:aktivita
n6:Z n6:P
n4:aktivity
P(GA202/05/2242), P(GA202/06/0776), P(GD202/03/H162), Z(MSM0021620834)
n4:dodaniDat
n7:2007
n4:domaciTvurceVysledku
n9:1276816 n9:5609291 n9:4267281 n9:2535777
n4:druhVysledku
n19:D
n4:duvernostUdaju
n5:S
n4:entitaPredkladatele
n11:predkladatel
n4:idSjednocenehoVysledku
484604
n4:idVysledku
RIV/00216208:11320/06:00002880
n4:jazykVysledku
n16:eng
n4:klicovaSlova
Measurements; Plasma; Parameters; Torch; Discharge; Deposition; Oxide; Films
n4:klicoveSlovo
n12:Films n12:Plasma n12:Deposition n12:Parameters n12:Discharge n12:Torch n12:Measurements n12:Oxide
n4:kontrolniKodProRIV
[19E328DFA2FB]
n4:mistoKonaniAkce
Prague
n4:mistoVydani
Prague
n4:nazevZdroje
WDS´06 Proceedings of Contributed Papers:Part II-Physics of Plasmas and Ionized Media
n4:obor
n21:BL
n4:pocetDomacichTvurcuVysledku
4
n4:pocetTvurcuVysledku
8
n4:projekt
n8:GD202%2F03%2FH162 n8:GA202%2F06%2F0776 n8:GA202%2F05%2F2242
n4:rokUplatneniVysledku
n7:2006
n4:tvurceVysledku
Chichina, Mariya Tichý, Milan Kudrna, Pavel Olejníček, Jiří
n4:typAkce
n13:EUR
n4:zahajeniAkce
2006-01-01+01:00
n4:zamer
n10:MSM0021620834
s:numberOfPages
6
n18:hasPublisher
Matfyzpress
n22:isbn
80-86732-85-1
n14:organizacniJednotka
11320