This HTML5 document contains 43 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/druhSouteze/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/kategorie/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/soutez/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/TA01011740/
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n14http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/

Statements

Subject Item
n2:TA01011740
rdf:type
n16:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=TA01011740
dcterms:description
Main goal of the proposed project is design, development and realization of hybrid and fully modular microwave plasma assisted chemical vapor deposition system based on high-density cold-plasma generated by surfatron suitable for growth of novel and advanced materials and their (nano) composite forms such as oxides (TiO2, ZnO) or diamond. The main challenging part of the project is fulfilling several industrial aspects in one platform where requirements like implementation of 2D/3D geometrically shaped substrates, large area, low temperature growth, high reliability and reproducibility of whole plasma deposition process and long-term well defined process conditions will be combined. For this purpose, such plasma system either in radial or linear arrangement will be systematically studied by variety of analytic conditions as the function of process parameters (total pressure, gas mixture, plasma source geometry, etc.). The final deposition system will be the backbone for further industrial uses. Hlavním cílem předkládaného projektu je návrh, vývoj a realizace hybridního a plně modulárního mikrovlnného systému chemické depozice z plynné fáze za asistence plazmatu založeného na nízkoteplotním zdroji plazmatu, surfatronu, s vysokým stupněm ionizace, který bude vhodný pro růst nových, moderních materiálů a jejich (nano) kompozitních forem, jako jsou například oxidy (TiO2, ZnO) nebo diamant. Hlavní výzvou projektu je zajištění několika různých průmyslových aspektů v jednom systému. Jedná se například o kombinace depozice na rozsáhlé plochy či 2D/3D objekty, nízké depoziční teploty, vysoké spolehlivosti a reprodukovatelnosti plazmové depozice při zachování dlouhodobé stability celého procesu. Zdroj plazmatu v radiálním či lineárním uspořádání bude systematicky studován množstvím analytických metod v závislosti na procesních parametrech (celkový tlak, složení plynné směsi, geometrie systému zdroje plazmatu a podobně). Výsledný depoziční systém bude vhodný pro široké spektrum průmyslových aplikací.
dcterms:title
Nízkoteplotní hybridní mikrovlnné plazmové zdroje s vysokým stupněm ionizace uspořádaných v matricové konfiguraci umožňujících depozice perspektivných materiálů a jejich (nano) kompozitů na 2D a 3D objekty Hybrid high-density low-temperature microwave plasma sources in matrix configuration suitable for growth of advanced materials and their (nano) composites on 2D and 3D substrates
skos:notation
TA01011740
n3:aktivita
n7:TA
n3:celkovaStatniPodpora
n4:celkovaStatniPodpora
n3:celkoveNaklady
n4:celkoveNaklady
n3:datumDodatniDoRIV
2015-05-05+02:00
n3:druhSouteze
n13:VS
n3:duvernostUdaju
n21:C
n3:fazeProjektu
n18:99749205
n3:hlavniObor
n6:BL
n3:kategorie
n20:AP
n3:klicovaSlova
cold plasma; plasma assisted chemical vapor deposition; thin films; nanotechnology; advanced materials; hybrid and modular system; environmental; reliability; reproducibility
n3:partnetrHlavni
n12:ico%3A27711170
n3:pocetKoordinujicichPrijemcu
0
n3:pocetPrijemcu
1
n3:pocetSpoluPrijemcu
1
n3:pocetVysledkuRIV
19
n3:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
19
n3:posledniUvolneniVMinulemRoce
2013-02-28+01:00
n3:prideleniPodpory
n9:20110108
n3:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n14:2014
n3:sberDatUdajeProjZameru
n14:2014
n3:soutez
n10:STA02011TA01
n3:statusZobrazovaneFaze
n19:DRRVK
n3:typPojektu
n17:P
n3:ukonceniReseni
2014-12-31+01:00
n3:vedlejsiObor
n6:JJ n6:JA
n3:zahajeniReseni
2011-01-01+01:00
n3:zivotniCyklusProjektu
n5:ZBBK
n3:klicoveSlovo
environmental plasma assisted chemical vapor deposition reliability thin films advanced materials cold plasma hybrid and modular system nanotechnology