This HTML5 document contains 39 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/druhSouteze/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/hodnoceniProjektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n21http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/kategorie/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n15http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/soutez/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/ME+673/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/
n6http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:ME+673
rdf:type
n20:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=ME 673
dcterms:description
Goal of project is to find new resources of plasma for creation of thiny layers.Spetial attention will be paid on improvement of screations speed and on revelation of processes,which are happening during layers preparation. Předmětem navrženého projektu je výzkum nových systémů pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu s cílem vytvořit nové materiály unikátních vlastností, objasnit složité procesy při jejich přípravě a zvýšit rychlost jejich vytváření.
dcterms:title
New resources of plasma for creation of thiny layers. Nové zdroje plazmatu pro vytváření tenkých vrstev
skos:notation
ME 673
n3:aktivita
n7:ME
n3:celkovaStatniPodpora
n9:celkovaStatniPodpora
n3:celkoveNaklady
n9:celkoveNaklady
n3:datumDodatniDoRIV
2008-10-27+01:00
n3:druhSouteze
n4:VS
n3:duvernostUdaju
n17:S
n3:fazeProjektu
n8:71803690
n3:hlavniObor
n16:BL
n3:hodnoceniProjektu
n11:V
n3:kategorie
n10:NV
n3:klicovaSlova
new resources of plasma for creation of thiny layers; improvement of screations speed; revelation of processes,which are happening during layers preparation
n3:partnetrHlavni
n14:orjk%3A23640
n3:pocetKoordinujicichPrijemcu
0
n3:pocetPrijemcu
1
n3:pocetSpoluPrijemcu
0
n3:pocetVysledkuRIV
10
n3:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
10
n3:posledniUvolneniVMinulemRoce
2007-03-26+02:00
n3:prideleniPodpory
n21:25+735%2F2003-32
n3:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n6:2007
n3:sberDatUdajeProjZameru
n6:2008
n3:soutez
n15:SMSM200300003
n3:statusZobrazovaneFaze
n13:DUU
n3:typPojektu
n18:P
n3:ukonceniReseni
2007-12-31+01:00
n3:zahajeniReseni
2003-10-01+02:00
n3:zhodnoceni+vysledku+projektu+dodavatelem
Byly získány nové výsledky v obl. vysokovýkonového pulzního naprašování vrstev kovů (Cu a Ti) a pulzní reaktivní magnetronové depozice fotokatalytických vrstev Ti02 a vrstev Al-Si-N s vysokou teplotní stabilitou (viz 12 čl. v mezinárodních časopisech). New results in the fields of high-power pulsed magnetron sputtering of metallic fílms (Cu,Ti) and of pulsed reactive magnetron deposition of photocatalytic Ti02 fílms and Al-Si-N fílms with high thermal stability were achieved (12papers in inter.joumals)
n3:zivotniCyklusProjektu
n12:ZBBBKU
n3:klicoveSlovo
revelation of processes new resources of plasma for creation of thiny layers improvement of screations speed