This HTML5 document contains 39 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

Prefix	IRI
n9	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
n14	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/druhSouteze/
n7	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n17	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/hodnoceniProjektu/
dcterms	http://purl.org/dc/terms/
n2	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n15	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n19	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n16	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
rdfs	http://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
skos	http://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n18	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n10	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n12	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
n6	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/ME+203/
rdf	http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdh	http://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n3	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n8	http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/
n5	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/

Statements

Subject Item

n2:ME+203

rdf:type

n19:Projekt

rdfs:seeAlso

http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=ME 203

dcterms:description

Předmětem navrženého projektu je výzkum nových systémů pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu s cílem vytvořit nové materiály unikátních vlastností a vyvinout novou technologii pro velmi rychlé nanášení vrstev jako možnou náhradu galvanických procesů s negativním vlivem na životní prostředí. Projekt bude zaměřen na následující problematiku: 1. Pulzní magnetronové napracování vrstev. 2. Tenké vrstvy na bázi uhlíku a křemíku. 3. Ochranné povlaky vytvářené v mikrovlnném plazmatu. A solution of fundamental problems arising in research into new plasma systems for preparation of thin films with the aim to form new materials of unique properties and to develop new techniques for high-rate deposition of the films. The project is solvein a collaboration with the Institute of Vacuum Industrial Technology at the Sung Kyun Kwan University in Suwon (Korea). The main interest is focused on the following topics: (i) Pulse techniques of magnetron sputtering, (ii) Carbon- and silicon-based thin films, (iii) Protective layers produced in microwave plasmas.

dcterms:title

Nové systémy pro přípravu tenkých vrstev v plazmatu New plasma systems for preparation of thin films

skos:notation

ME 203

n3:aktivita

n5:ME

n3:celkovaStatniPodpora

n6:celkovaStatniPodpora

n3:celkoveNaklady

n6:celkoveNaklady

n3:datumDodatniDoRIV

2009-05-22+02:00

n3:druhSouteze

n14:VS

n3:duvernostUdaju

n16:S

n3:fazeProjektu

n18:1086515

n3:hlavniObor

n10:BL

n3:hodnoceniProjektu

n17:V

n3:klicovaSlova

Plasma systems; thin films; protective layers; new materials; high-rate deposition; pulse techniques; magnetron sputtering; microwave plasmas; carbon-based films; silicon-based films.

n3:partnetrHlavni

n15:orjk%3A23520

n3:pocetKoordinujicichPrijemcu

0

n3:pocetPrijemcu

1

n3:pocetSpoluPrijemcu

0

n3:pocetVysledkuRIV

24

n3:pocetZverejnenychVysledkuVRIV

24

n3:sberDatUcastniciPoslednihoRoku

n8:2003

n3:sberDatUdajeProjZameru

n8:2003

n3:statusZobrazovaneFaze

n12:DUU

n3:typPojektu

n7:P

n3:vedlejsiObor

n10:JJ

n3:zhodnoceni+vysledku+projektu+dodavatelem

Rozvoj poznání v oblasti pulzních magnetronových systémů, reaktivní magnetronové depozice vrstev na bázi uhlíku a křemíku a plazmové nitridace oceli, hliníku a hliníkových slitin

n3:zivotniCyklusProjektu

n9:ZBBBKU

n3:klicoveSlovo

new materials high-rate deposition carbon-based films pulse techniques thin films protective layers magnetron sputtering Plasma systems microwave plasmas