This HTML5 document contains 44 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n22http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/druhSouteze/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/hodnoceniProjektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n20http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/kategorie/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/soutez/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/KJB100100707/
n5http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:KJB100100707
rdf:type
n21:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=KJB100100707
dcterms:description
The low temperature deposition of high quality oxide thin films by the multi-plasma jet system will be investigated. Advanced methods of 'in situ' plasma diagnostics will be used and extended. The main interest will be to deposit ferroelectric Ba1-xSrxTiO3 and PbZr1-xTixO3 thin films at low temperature with good dielectric and ferroelectric properties. These parameters will be measured in a wide range of frequencies and temperatures. The main target will be to control the structure with the size of crystallites, accuracy of required chemical composition, density of defects as oxygen vacancies and dielectric properties in dependence on the measured plasma parameters. The doped and gradient perovskite films should be deposited as well. The next target will be to deposit high quality anatase nanocrystalline films with high quality of structure, low density of vacancies and precise stoichiometry. The main interests will be to obtain high deposition rate and good photocatalytic properties. Navrhovaný projekt bude zaměřen na nízkoteplotní depozici vybraných oxidových tenkých vrstev pomocí vícetryskového plazmového systému. K měření parametrů plazmatu v průběhu depozice budou použity a rozšířeny pokročilé diagnostické metody. Hlavním cílem bude depozice tenkých feroelektrických vrstev Ba1-xSrxTiO3 a PbZr1-xTixO3 za nízkých teplot s kvalitními dielektrickými a feroelektrickými vlastnostmi. Tyto parametry budou měřeny v širokém rozpětí frekvencí a teplot. Důraz bude kladen na kontrolovanou depozici z hlediska velikosti zrn, přesnosti požadovaného chemického složení, hustoty defektů, kyslíkových vakancí a dielektrických vlastností v závislosti na měřených parametrech plazmatu. Zvládnutí předchozích úkolů umožní deponovat gradientní perovskitové vrstvy. Dalším úkolem bude depozice vysoce kvalitních nanokrystalických vrstev anatasu s malou hustotou vakancí a přesnou stechiometrií. Cílem bude dosáhnout vysoké depoziční rychlosti a velmi dobrých fotokatalytických vlastností.
dcterms:title
Nízkoteplotní plazmatická depozice polykrystalických a nanokrystalických oxidových tenkých vrstev pomocí systému dutých katod Low-temperature plasmatic deposition of polycrystalline and nanocrystalline oxide thin films by systems with hollow cathodes
skos:notation
KJB100100707
n3:aktivita
n17:KJ
n3:celkovaStatniPodpora
n18:celkovaStatniPodpora
n3:celkoveNaklady
n18:celkoveNaklady
n3:datumDodatniDoRIV
2011-06-14+02:00
n3:druhSouteze
n9:VS
n3:duvernostUdaju
n15:S
n3:fazeProjektu
n12:65950426
n3:hlavniObor
n16:BL
n3:hodnoceniProjektu
n7:U
n3:kategorie
n4:ZV
n3:klicovaSlova
thin films; hollow cathode sputtering; plasmajet; BSTO; PZT; TiOx; emission spectroscopy; langmuir probe; impedance
n3:partnetrHlavni
n20:ico%3A68378271
n3:pocetKoordinujicichPrijemcu
0
n3:pocetPrijemcu
1
n3:pocetSpoluPrijemcu
0
n3:pocetVysledkuRIV
9
n3:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
9
n3:posledniUvolneniVMinulemRoce
2009-04-28+02:00
n3:prideleniPodpory
n13:KJB100100707
n3:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n5:2009
n3:sberDatUdajeProjZameru
n5:2010
n3:soutez
n8:SAV02007-B
n3:statusZobrazovaneFaze
n14:DUU
n3:typPojektu
n10:P
n3:ukonceniReseni
2009-12-31+01:00
n3:zahajeniReseni
2007-01-01+01:00
n3:zhodnoceni+vysledku+projektu+dodavatelem
Byl proveden výzkum plazmatických systémů s dutými katodami při depozici vrstev BaxSr1-xTiO3, TiO2 a TiO2:N. Pro diagnostiku plazmatu v těchto systémech byla použita metoda emisní spektroskopie,Langmuirovské sondy a měřní iontového toku na substrát. Hollow cathode plasma jet systems were studied by the deposition of BaxSr1-xTiO3, TiO2 and TiO2:N thin films. Emission spectroscopy, Langmuir probe and ion flux monitor on the substrate were used for plasma diagnostics.
n3:zivotniCyklusProjektu
n22:ZBKU
n3:klicoveSlovo
BSTO PZT plasmajet TiOx langmuir probe hollow cathode sputtering emission spectroscopy thin films