This HTML5 document contains 27 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/hodnoceniProjektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/IAA1010827/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/
n5http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:IAA1010827
rdf:type
n14:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=IAA1010827
dcterms:description
About ten years ago a new plasma-chemical reactor with supersonic plasma channel (RPJ) has been developed in the Institute of Physics AS CR. In this reactor the plasma channel is reated by means of the RF unipolar hollow cathode discharge which is superimpose on the primary RF plasma. Experimentally has been found that by means of the RPJ reactor the thin films with defined stoichiometry have been achieved and the thin films can be deposit on the internal walls of cavities, holes and complex shapeof hollow substrates. Recently the two hollow cathode RPJ reactor has been developed by means of which is able to deposit the composite thin films and multilayer structures. Furthermore the RPJ reactor can be used for the novel application for example for surface treatment of polymers and materials which is possible utilize in the medicine, ecological programs and biophysics. Up to now the RPJ reactor has been utilize mostly on the base of the empirical knowledge. Na konci osmdesátých let byl ve Fyzikálním ústavu AV ČR vyvinut plazma-chemický reaktor pracující na novém principu generace plazmového kanálu pomocí indukovaného RF výboje v duté katodě, který se superponuje na RF výboj a reaktoru. Experimenty ukázaly, že pomocí tohoto reaktoru je možné nanášet tenké vrstvy s definovanou stechiometrií a nanášet tenké vrstvy do dutin a na substráty komplikovaných tvarů. V poslední době byl vyvinut dvoukatodový systém, pomocí kterého je možno nanášet kompositní vrstvy a vícevrstevnaté struktury. Uvedený reaktor tak může nahradit některé dosavadní technologie, které mají negativní vliv na životní prostředí, a dále umožnit zavedení nových technologií využitelných např. v medicíně, ekologii a v biofyzice. Ve většině případů se však dosud reaktory s dutou katodou využívaly na základě převážně empirických zkušeností bez komplexního studia procesů v nich probíhajících. Cílem předloženého projektu je proto provést komplexní studium procesů ve zmíněném reaktoru.
dcterms:title
Processes in the unipolar RF hollow cathode discharge induced in the plasma reactor Procesy v jednopolovém RF výboji s dutou katodou indukovaném v plazmatickém reaktoru
skos:notation
IAA1010827
n3:aktivita
n18:IA
n3:celkovaStatniPodpora
n4:celkovaStatniPodpora
n3:celkoveNaklady
n4:celkoveNaklady
n3:duvernostUdaju
n13:S
n3:fazeProjektu
n12:596692
n3:hlavniObor
n7:BL
n3:hodnoceniProjektu
n16:V
n3:partnetrHlavni
n17:ico%3A68378271
n3:pocetKoordinujicichPrijemcu
0
n3:pocetPrijemcu
1
n3:pocetSpoluPrijemcu
0
n3:pocetVysledkuRIV
5
n3:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
5
n3:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n5:2001
n3:sberDatUdajeProjZameru
n5:2001
n3:statusZobrazovaneFaze
n15:DUU
n3:typPojektu
n11:P
n3:vedlejsiObor
n7:BM
n3:zhodnoceni+vysledku+projektu+dodavatelem
Byl vypracován model základních procesů pro nízkotlaký RF doutnavý výboj v unipolární duté katodě. Výsledky byly využity pro optimalizaci parametrů procesu depozice tenkých vrstev.
n3:zivotniCyklusProjektu
n10:ZBKU