This HTML5 document contains 47 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/druhSouteze/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/hodnoceniProjektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n22http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n21http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/kategorie/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/soutez/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/IAA100100622/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n11http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/

Statements

Subject Item
n2:IAA100100622
rdf:type
n12:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=IAA100100622
dcterms:description
Klasická optická a elektronová litografie zůstávají hlavní technologie v polovodičovém průmyslu ve výrobě i při současné šířce čáry 100 nm. Nová technologie nanotisku do polymerů již pracuje s rozlišením 10 nm. Positivní rezisty pro pokročilou výrobu masek s elektronovými vysokoenergetickými svazky tak musí prodělat zásadní změny. Organické křemíkové nanostrukturní polymerní materiály představují novou skupinu elektronicky aktivních materiálů. Cílem projektu je výzkum procesů vedoucích k formování metastabilních stavů v organických křemíkových polymerech jako jsou slabé vazby, jejich konverze na přerušené vazby a ovlivnění těchto procesů jak výběrem materiálů, tak i aktivních přísad do aktivních křemíkových polymerů. Metodiky, uplatněné v projektu, budou fotoelektronové spektroskopie, efúsní spektroskopie a foto a katodoluminiscence, podporované kvantově chemickými výpočty pro pochopení mikrofyzikálních jevů vedoucích k metastabilitě a degradaci. Classical optical and electron lithography continues to be the main technology used in the semiconductor industry for the fabrication at the current 100 nm design rules.Emerging nanoimprint lithography in polymers has already demonstrated 10nm resolution working principle. Positive tone resists for advanced mask-making with high-voltage electron-beams will thus have to undergo profound changes. Organic silicon nanostructural polymeric materials are a new group of electronically active materials. The aim of the project is the elucidation of processes leading to the formation of metastable states, as weak bonds, and their conversion to dangling bonds by both the choice of materials and active admixtures in organic silicon polymers. The methods applied in the project will be photoelectron spectroscopy, effusion spectroscopy, photo- and cathodoluminescence supported by quantum calculations for understanding of the microphysical phenomena responsible for metastability and degradation.
dcterms:title
KONJUGOVANÉ KŘEMÍKOVÉ POLYMERY PRO REZISTY V NANOTECHNOLOGIÍCH CONJUGATED SILICON – BASED POLYMER RESISTS FOR NANOTECHNOLOGIES
skos:notation
IAA100100622
n3:aktivita
n4:IA
n3:celkovaStatniPodpora
n5:celkovaStatniPodpora
n3:celkoveNaklady
n5:celkoveNaklady
n3:datumDodatniDoRIV
2010-06-08+02:00
n3:druhSouteze
n15:VS
n3:duvernostUdaju
n9:S
n3:fazeProjektu
n17:65935708
n3:hlavniObor
n10:BM
n3:hodnoceniProjektu
n18:V
n3:kategorie
n19:ZV
n3:klicovaSlova
photodestructive changes - polymers, electron resists, nanostructural optoelectronics, dangling bonds, weak bonds, photoelectron spectroscopy of polymers, cathodoluminescence, photoluminescence, effusion spectroscopy,
n3:partnetrHlavni
n22:ico%3A68378271
n3:pocetKoordinujicichPrijemcu
1
n3:pocetPrijemcu
4
n3:pocetSpoluPrijemcu
0
n3:pocetVysledkuRIV
27
n3:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
27
n3:posledniUvolneniVMinulemRoce
2009-04-28+02:00
n3:prideleniPodpory
n21:IAA100100622
n3:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n11:2009
n3:sberDatUdajeProjZameru
n11:2010
n3:soutez
n14:SAV02006-A
n3:statusZobrazovaneFaze
n13:DUU
n3:typPojektu
n16:P
n3:ukonceniReseni
2009-12-31+01:00
n3:vedlejsiObor
n10:CC n10:CD
n3:zahajeniReseni
2006-01-01+01:00
n3:zhodnoceni+vysledku+projektu+dodavatelem
Project solves the formation of metastable states in organosilicon polymers as weak and dangling bonds and their affecting by the choice of materials and active admixtures.The ways for the production of resists for the nano technologies have been devised Projekt řeší formování metastabilních stavů v organokřemíkových polymerech, slabých a přerušených vazeb a jejich ovlivnění výběrem materiálů i aktivních přísad. Byly navrženy postupy k výrobě rezistů z polysilanů pro oblast nanotechnologií.
n3:zivotniCyklusProjektu
n7:ZBBKU
n3:klicoveSlovo
electron resists photoluminescence dangling bonds photoelectron spectroscopy of polymers cathodoluminescence effusion spectroscopy weak bonds nanostructural optoelectronics photodestructive changes - polymers