This HTML5 document contains 36 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n22http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/druhSouteze/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/hodnoceniProjektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/
n15http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/kategorie/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/soutez/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GAP205%2F11%2F0386/
n11http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/

Statements

Subject Item
n2:GAP205%2F11%2F0386
rdf:type
n17:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=GAP205/11/0386
dcterms:description
We propose in the project to perform investigation of plasma sources operating in pulse regime (cylindrical and planar magnetron, hollow cathode and surfatron-generated plasma jet), to characterize plasma sources with respect to deposition of thin films and together with computer simulation to clarify physical processes during growth and formation of films. The plasma sources will be investigated by appropriate diagnostics methods and obtained results will be used as input parameters into the computer simulations. The main objectives are:- To optimize plasma sources in pulse regime for efficient thin oxide film deposition: low-pressure dc magnetron, hollow cathode and microwave plasma jet.- To implement in these plasma sources the best suitable forms of the time-resolved diagnostic techniques: electrostatic probe, optical emission and laser absorption spectroscopy, mass spectrometry and ion flux diagnostics.- To obtain experimental data on the complex plasma processes occurring within these sources and to understand their significance with respect to the deposited nanocrystalline material properties including diagnostics of crystallographic structure.- Acquired plasma parameters and measured thin film properties will be used for development of computer simulation of thin film growth and enable us to describe basic physical principles responsible for thin film formation. V projektu předpokládáme provést výzkum pulsně modulovaných zdrojů plazmatu (válcový a planární magnetron, plazmová tryska, mikrovlnný surfatronový výboj), jejich charakterizaci pro nanášení tenkých (především oxidových) vrstev a spolu s počítačovými simulacemi objasnit fyzikální procesy při růstu a formování tenkých vrstev. Plazma bude v těchto systémech studováno pomocí vhodných diagnostických metod a získané výsledky budou sloužit jako vstupní parametry do modelu počítačových simulací. Hlavní cíle projektu jsou následující: Optimalizovat pulzní zdroje plazmatu pro efektivní nanášení tenkých oxidových vrstev: planární magnetron, plazmovou trysku s dutou katodou pracujícícmi za nízkého tlaku a surfatronem buzený mikrovlnný tryskový výboj pracující za vyšších tlaků. Implementovat do těchto zdrojů plazmatu následující zdokonalené diagnostické metody měřící s časovým rozlišením: elektrostatickou sondu, emisní a laserovou absorpční spektroskopii, hmotovou spektrometrii a měření energetického rozdělení iontů. Experimentálně charakterizovat plazmatické procesy probíhající v těchto zdrojích plazmatu a porozumět jejich vlivu na vlastnosti nanášených nanokrystalických tenkých vrstev včetně diagnostiky jejich krystalografické struktury a s ní spjatých vlastností. Na základě výsledků diagnostiky plazmatu a vlastností nanesených vrstev vytvořit počítačové simulace růstu vrstev a vysvětlit základní fyzikální principy zodpovědné za formování vrstev.
dcterms:title
Pokročilý experimentální výzkum výbojových zdrojů plazmatu použitých pro přípravu nanostrukturovaných tenkých vrstev Advanced experimental research of discharge plasma sources applied for deposition of nanostructured thin films
skos:notation
GAP205/11/0386
n3:aktivita
n7:GA
n3:celkovaStatniPodpora
n13:celkovaStatniPodpora
n3:celkoveNaklady
n13:celkoveNaklady
n3:datumDodatniDoRIV
2014-07-01+02:00
n3:druhSouteze
n16:VS
n3:duvernostUdaju
n5:S
n3:fazeProjektu
n20:100268380
n3:hlavniObor
n19:BL
n3:hodnoceniProjektu
n14:V
n3:kategorie
n8:ZV
n3:klicovaSlova
discharge plasma jet magnetron TiO2
n3:partnetrHlavni
n15:orjk%3A11320
n3:pocetKoordinujicichPrijemcu
0
n3:pocetPrijemcu
1
n3:pocetSpoluPrijemcu
2
n3:pocetVysledkuRIV
29
n3:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
29
n3:posledniUvolneniVMinulemRoce
2013-06-12+02:00
n3:prideleniPodpory
n18:P205-11-0386
n3:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n11:2013
n3:sberDatUdajeProjZameru
n11:2014
n3:soutez
n4:SGA02011GA-ST
n3:statusZobrazovaneFaze
n10:DUU
n3:typPojektu
n21:P
n3:ukonceniReseni
2013-12-31+01:00
n3:zahajeniReseni
2011-01-01+01:00
n3:zhodnoceni+vysledku+projektu+dodavatelem
Přínos projektu spočívá v rozvoji sondových diagnostik (modifikovaná Katsumata sonda) umožňujících mapování iontových toků na substrát v hybrid- ních HiPIMS systémech, v oblasti depozice tenkých vrstev (kompozitní gradientní Ti-Cu vrstvy, řízení krystalo-grafické struktury TiO2 vrstev p-d parametrem) a v oblasti simulací růstu vrstev. Výsledky jsou ve 13 impaktovaných publikacích. Main outcome of the project consist in the development of probe diagnostics (modified Katsumata probe) enabling mapping of ion flux onto substrate in hybrid MF-HiPIMS systems, in the deposition of thin films (Ti-Cu composite layer with a gradient structure, control of the crystallographic structure of the TiO2 films by p-d parameter) and in simulations of thin film growth (13 published papers).
n3:zivotniCyklusProjektu
n22:ZBKU