This HTML5 document contains 38 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/druhSouteze/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/hodnoceniProjektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n19http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GA202%2F06%2F1473/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n15http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/kategorie/
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
n22http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/soutez/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n20http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/
n5http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:GA202%2F06%2F1473
rdf:type
n8:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=GA202/06/1473
dcterms:description
The goal of the project is the study of the thin film deposition in dielectric barrier discharges burning at atmospheric pressure. For the deposition such types of discharges, which produce homogenneous plasma, will be selected, so that deposited films can be homogenneous also. The posibilities of deposition of thin films with specific properties, eg. hardness and abrasion resistance etc. will be studied. The properties of discharges will be characterised by electrical measurements and optical emision spectroscopy. The prepared thin films will be studied by different diagnostics methods - the morfology of the surface will be studied  by AFM and SEM, the chemical composition of films by XPS, FTIR and RBS, further the microhardness, the elastic modulus and the surface free energy will be measured. Cílem projektu je studium depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích hořících za atmosférického tlaku. Pro depozice budou zvoleny takové typy výboje, které produkují homogenní plazma, aby rovněž deponované vrstvy byly homogenní. Budou studovány možnosti depozice tenkých vrstev se specifickými vlastnostmi, např. vysoká tvrdost a otěruvzdornost vrstev atd. Vlastnosti výbojů budou charakterizovány pomocí elektrických měření a optické emisní spektroskopie. Připravené tenké vrstvy budou zkoumány různými diagnostickými metodami - morfologie povrchu bude studována pomocí AFM a SEM, chemické složení vrstev pomocí XPS a RBS, dále bude měřena mikrotvrdost, modul pružnosti vrstev a povrchová energie vrstev.
dcterms:title
Deposition of thin films in dielectric barrier discharges at atmospheric pressure Depozice tenkých vrstev v dielektrických bariérových výbojích za atmosférického tlaku
skos:notation
GA202/06/1473
n4:aktivita
n20:GA
n4:celkovaStatniPodpora
n19:celkovaStatniPodpora
n4:celkoveNaklady
n19:celkoveNaklady
n4:datumDodatniDoRIV
2009-10-22+02:00
n4:druhSouteze
n21:VS
n4:duvernostUdaju
n17:S
n4:fazeProjektu
n12:68674286
n4:hlavniObor
n22:BL
n4:hodnoceniProjektu
n13:V
n4:kategorie
n14:ZV
n4:klicovaSlova
deposition; thin films; barrier discharges
n4:partnetrHlavni
n15:orjk%3A14310
n4:pocetKoordinujicichPrijemcu
0
n4:pocetPrijemcu
1
n4:pocetSpoluPrijemcu
0
n4:pocetVysledkuRIV
14
n4:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
14
n4:posledniUvolneniVMinulemRoce
2008-04-25+02:00
n4:prideleniPodpory
n11:202%2F06%2F1473
n4:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n5:2008
n4:sberDatUdajeProjZameru
n5:2009
n4:soutez
n7:SGA02006GA-ST
n4:statusZobrazovaneFaze
n16:DUU
n4:typPojektu
n10:P
n4:ukonceniReseni
2008-12-31+01:00
n4:zahajeniReseni
2006-01-01+01:00
n4:zhodnoceni+vysledku+projektu+dodavatelem
Homogenní dielektrický bariérový výboj hořící v dusíku za atmosférického tlaku byl používán pro depozici tenkých vrstev z různých monomerů (hexamethyldisiloxan - HMDSO, tetraethoxysiloxan - TEOS, propan-butan). Jako substráty pro depozice byly použity: s Homogeneous dielectric barrier discharge burning in nitrogen at atmospheric pressure was used for the thin film deposition from different monomers (hexamethyldisiloxane - HMDSO, tetraethoxysiloxane - TEOS, propane-butane). Glass, silicon and polycarbonat
n4:zivotniCyklusProjektu
n6:ZBKU
n4:klicoveSlovo
thin films deposition