This HTML5 document contains 34 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/druhSouteze/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/hodnoceniProjektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GA202%2F02%2F0767/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n21http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/kategorie/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/soutez/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n8http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/

Statements

Subject Item
n2:GA202%2F02%2F0767
rdf:type
n10:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=GA202/02/0767
dcterms:description
The project proposal suggests to study multilayers of ultra-thin films with an overall thickness below 10 nm by two complementary non-destructive techniques, such as Angle Resolved XPS (AR XPS) and X-ray Optical Reflectivity (XRR). While the latter technique has already become popular in analysis of multilayers, until now AR XPS has not been used yet in depth profiling of multilayers. To improve depth resolution accuracy of AR XPS (needed for multilayer analysis), a maximum entropy method which is robust to experimental noise and not restricted to small numbers of components will be used for deconvolution of composition depth profiles of multilayers. Applying these two complementary experimental methods, the accuracy of the analysis might be significantly improved. This is especially true for materials, atoms of which chemically react in the area of interfaces and form complex chemical compounds and structures. In the case of successful implementation of this novel approach, geometrical and Předkládaný projekt navrhuje studium ultratenkých multivrstev s celkovou tloušťkou pod 10 nm pomocí komplementárního použití dvou nedestruktivních analytických metod, a to úhlově selektivní fotoelektronové spektroskopie (AR XPS) a optické reflexe rtg. záření (XRR). Zatímco XRR se stala populární metodou v analýze multivrstev, AR XPS nebyla dosud použita pro hloubkové profilování v této oblasti. Aby se zvýšilo hloubkové rozlišení AR XPS (což je potřebné pro analýzu multivrstev), bude použita pro dekonvoluci hloubkového profilu chem. složení metoda založená na principu maximální entropie analyzovaných dat. Tato metoda umožňuje získávat profily i z velmi slabých signálů a není omezena malým počtem prvků, jejichž profily chceme získat. Použitím těchto dvou analytických metod se může výrazně zvýšit přesnost analýzy. To platí zvláště v případě materiálů, jejichž atomy vzájemně chemicky reagují v oblasti rozhraní a tvoří složité chemické sloučeniny a struktury. V případě úspěšného zvládnutí tohoto
dcterms:title
Studium ultratenkých multivrstev užitím fotoelektronové spektroskopie a optické reflexe rtg. záření A study of multilayers of ultra-thin films using X-ray photoelectron spectroscopy and x-ray reflectivity
skos:notation
GA202/02/0767
n4:aktivita
n7:GA
n4:celkovaStatniPodpora
n14:celkovaStatniPodpora
n4:celkoveNaklady
n14:celkoveNaklady
n4:datumDodatniDoRIV
2008-06-02+02:00
n4:druhSouteze
n6:VS
n4:duvernostUdaju
n17:S
n4:fazeProjektu
n19:1564472
n4:hlavniObor
n13:BM
n4:hodnoceniProjektu
n16:U
n4:kategorie
n12:ZV
n4:klicovaSlova
Neuvedeno.
n4:partnetrHlavni
n21:orjk%3A26210
n4:pocetKoordinujicichPrijemcu
0
n4:pocetPrijemcu
1
n4:pocetSpoluPrijemcu
1
n4:pocetVysledkuRIV
13
n4:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
13
n4:rokUkonceniPodpory
n8:2004
n4:rokZahajeniPodpory
n8:2002
n4:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n8:2005
n4:sberDatUdajeProjZameru
n8:2005
n4:soutez
n18:SGA02002GA-ST
n4:statusZobrazovaneFaze
n5:DUU
n4:typPojektu
n15:P
n4:zhodnoceni+vysledku+projektu+dodavatelem
In accordance with the project objectives  the method of angle-resolved  photoelectron spectroscopy (AR XPS) utilizing the principle of maxima entropy for  depth profile reconstruction of ultrathin films and multilayers  has been developed. A detailed st V souladu s cíli řešeného projektu byla vypracována metoda úhlově rozlišitelné fotoelektronové spektroskopie (AR XPS) využívající principu maxima  entropie za účelem rekonstrukce hloubkových profilů ultratenkých vrstev a multivrstev. Bylo provedeno detai
n4:zivotniCyklusProjektu
n11:ZBKU