This HTML5 document contains 39 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/druhSouteze/
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n6http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GA14-29772S/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n15http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n21http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/kategorie/
n20http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n7http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n19http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/soutez/
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/
n13http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:GA14-29772S
rdf:type
n20:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=GA14-29772S
dcterms:description
The new sources of intense coherent short-wavelength radiation, i.e., plasma and e-beam based XUV/X-ray lasers, represent promising tools for the direct nano-patterning of solids, as they enable the ablation (desorption) printing of features with dimensions comparable to the wavelength. A key advantage of the XUV/X-ray lasers for fabrication of tailored nanostructures is the unique combination of exceptionally short wavelength, very good coherence, and high peak power. Certain thresholds for materials processing require XUV/X-ray sources to deliver enough fluence and thus sufficiently high power to the irradiated surface area. Although high-order harmonics and non-coherent sources developed for EUV lithography can also pattern material surfaces with nanometer precision, they cannot directly produce three-dimensional nanostructures using a few shots in a single processing step. In this project, a systematic investigation of spontaneously grown (LIPSS) and externally created (mask projection) nano-patterns on XUV/X-ray laser-irradiated surfaces is proposed. Nové zdroje intenzívního koherentního krátkovlnného záření, tedy XUV/rtg. lasery s vysokoteplotním plazmatem nebo svazkem relativistických elektronů, představují nadějný nástroj přímého nanostrukturování povrchů různých materiálů, neboť mohou ablačně či desorpčně otisknout obrazec s detaily srovnatelnými s vlnovou délkou záření. Klíčovou výhodou XUV/rtg. laserů pro přípravu nanostruktur požadovaného profilu je unikátní kombinace krátké vlnové délky, vysokého stupně koherence a extrémního špičkového výkonu. Existence určité prahové fluence potřebné k přímému strukturování povrchu vyžaduje právě dostatek výkonu ve fokusovaném svazku. Ačkoliv zdroje typu vysokých harmonických nebo nekoherentní plazmové zdroje vyvíjené pro extrémní ultrafialovou lithografii mohou také posloužit k přenesení obrazce s detaily menšími než desetina mikrometru, nevyprodukují prostorovou nanostrukturu několika impulzy záření. Tento projekt je zaměřen na systematický výzkum vytváření nanostruktur na površích různých materiálů ozářených intenzívním krátkovlnným zářením a objasnění mechanismu jejich vzniku.
dcterms:title
Nanostrukturování povrchů extrémním ultrafialovým a rentgenovým laserovým zářením Surface nanostructuring by extreme ultraviolet and X-ray laser radiation
skos:notation
GA14-29772S
n3:aktivita
n18:GA
n3:celkovaStatniPodpora
n6:celkovaStatniPodpora
n3:celkoveNaklady
n6:celkoveNaklady
n3:datumDodatniDoRIV
2015-04-23+02:00
n3:druhSouteze
n17:VS
n3:duvernostUdaju
n12:S
n3:fazeProjektu
n16:100798387
n3:hlavniObor
n7:BH
n3:kategorie
n21:ZV
n3:klicovaSlova
nanostructures, solid surfaces, extreme ultraviolet radiation, X-rays, laser ablation, laser desorption, laser-induced periodic surface structures (LIPSS)
n3:partnetrHlavni
n4:ico%3A68378271
n3:pocetKoordinujicichPrijemcu
0
n3:pocetPrijemcu
1
n3:pocetSpoluPrijemcu
1
n3:pocetVysledkuRIV
2
n3:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
2
n3:posledniUvolneniVMinulemRoce
2014-03-17+01:00
n3:prideleniPodpory
n15:14-29772S
n3:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n13:2015
n3:sberDatUdajeProjZameru
n13:2015
n3:soutez
n19:SGA0201400001
n3:statusZobrazovaneFaze
n10:DRRVB
n3:typPojektu
n14:P
n3:ukonceniReseni
2016-12-31+01:00
n3:zahajeniReseni
2014-01-01+01:00
n3:zivotniCyklusProjektu
n8:ZB
n3:klicoveSlovo
extreme ultraviolet radiation laser desorption solid surfaces X-rays laser ablation nanostructures