This HTML5 document contains 47 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n14http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
n17http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/druhSouteze/
n5http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n18http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n12http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/kategorie/
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n9http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GA14-03875S/
n20http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/soutez/
n15http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/
n8http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/

Statements

Subject Item
n2:GA14-03875S
rdf:type
n3:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=GA14-03875S
dcterms:description
The aim of the project is to prepare thin-film materials with unique physical and functional properties. They will be synthesized using new high-power pulsed magnetron sputtering techniques without the need for high substrate bias voltages, high substrate temperatures and post-deposition annealing. Benefits of the new magnetron sputtering techniques with highly ionized pulsed plasmas will be utilized in a high-rate reactive deposition of densified oxides (such as HfO2 and Al2O3) and oxynitrides (such as HfON) with controlled structure and properties, and oxynitride coatings with nanoclustered surfaces (such as TaON with Cu, Ag and Ni nanoclusters, having a potential to produce H2 and O2 from water under visible light irradiation). The pulsed magnetron sputtering techniques will be also used for preparation of new multifunctional thin-film materials (multicomponent nitrides and oxynitrides) from the Hf(Ta)(Si)BCN(O) system. The correlations between process parameters and the elemental composition, structure and properties of the formed materials will be explained. Cílem projektu je příprava tenkovrstvých materiálů s unikátními fyzikálními a funkčními vlastnostmi. Budou syntetizovány užitím nových vysokovýkonových pulzních magnetronových naprašovacích technik bez nutnosti vysokého záporného předpětí substrátů, vysokých teplot substrátů a ohřevu po depozici. Výhody nových magnetronových technik se silně ionizovaným pulzním plazmatem budou využity při vysokorychlostní depozici densifikovaných oxidů (např. HfO2 a Al2O3) a oxynitridů (např. HfON) s řízenou strukturou a vlastnostmi a oxynitridových povlaků s nanoklastry na povrchu (např. TaON s nanoklastry Cu, Ag a Ni s vysokým potenciálem vytvářet po ozáření viditelným světlem vodík a kyslík z vody). Pulzní magnetronové techniky budou využity také při přípravě nových multifunkčních materiálů (multikomponentní nitridy a oxynitridy) ze systému Hf(Ta)(Si)BCN(O). Budou objasněny korelace mezi procesními parametry a prvkovým složením, strukturou a vlastnostmi vytvořených materiálů.
dcterms:title
Nanostrukturní multifunkční povlaky připravené užitím silně ionizovaného pulzního plazmatu Nanostructured multifunctional coatings prepared using highly ionized pulsed plasmas
skos:notation
GA14-03875S
n4:aktivita
n10:GA
n4:celkovaStatniPodpora
n7:celkovaStatniPodpora
n4:celkoveNaklady
n7:celkoveNaklady
n4:datumDodatniDoRIV
2015-04-23+02:00
n4:druhSouteze
n17:VS
n4:duvernostUdaju
n16:S
n4:fazeProjektu
n9:100788356
n4:hlavniObor
n19:JI
n4:kategorie
n12:ZV
n4:klicovaSlova
Nanostructured coatings, Magnetron sputtering, Highly ionized plasmas, Densified oxides, Oxynitrides, Multicomponent nitrides, Nanoclusters, Hardness, Optical transparency, Dielectric constant, Thermal stability, Oxidation resistance, Photoactivity, Hig…
n4:partnetrHlavni
n13:orjk%3A23520
n4:pocetKoordinujicichPrijemcu
0
n4:pocetPrijemcu
1
n4:pocetSpoluPrijemcu
0
n4:pocetVysledkuRIV
4
n4:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
4
n4:posledniUvolneniVMinulemRoce
2014-03-14+01:00
n4:prideleniPodpory
n18:14-03875S
n4:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n8:2015
n4:sberDatUdajeProjZameru
n8:2015
n4:soutez
n20:SGA0201400001
n4:statusZobrazovaneFaze
n15:DRRVB
n4:typPojektu
n5:P
n4:ukonceniReseni
2016-12-31+01:00
n4:vedlejsiObor
n19:JJ
n4:zahajeniReseni
2014-01-01+01:00
n4:zivotniCyklusProjektu
n14:ZB
n4:klicoveSlovo
Optical transparency Dielectric constant Nanostructured coatings Thermal stability Photoactivity Nanoclusters Highly ionized plasmas Magnetron sputtering Oxidation resistance Multicomponent nitrides Oxynitrides Densified oxides Hardness