This HTML5 document contains 34 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n18http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/typPojektu/
n13http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/zivotniCyklusProjektu/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/
n17http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/subjekt/
n15http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/prideleniPodpory/
n16http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n11http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/kategorie/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/ED2.1.00%2F03.0086/
n19http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/duvernostUdaju/
skoshttp://www.w3.org/2004/02/skos/core#
rdfshttp://www.w3.org/2000/01/rdf-schema#
n10http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/obor/
n6http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/fazeProjektu/
n8http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/statusZobrazovaneFaze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/cep/
n14http://reference.data.gov.uk/id/gregorian-year/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/aktivita/

Statements

Subject Item
n2:ED2.1.00%2F03.0086
rdf:type
n16:Projekt
rdfs:seeAlso
http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=ED2.1.00/03.0086
dcterms:description
Cílem projektu je vytvořit regionální VaV centrum schopné rychle, flexibilně a vysoce odborně reagovat na požadavky zejména malých a středních podniků a podnikových průmyslových partnerů v oblasti zprostředkování nízkonákladových plazmových nanotechnologických povrchových úprav. materiálu, které přináší implementace striktní environmentální legislativy v tradičních průmyslových sektorech ČR. Centrum bude poskytovat praktické a ekonomicky proveditelné plazmochemické řešení technologických problémů, zpočátku zaměřené zejména na české malé a střední podniky. S pomocí odborných služeb Centra budou moci tyto malé a střední regionální podniky s velmi limitovaným vlastním výzkumným zázemím reagovat na blížící se omezení nařízené EU (REACH předpisy). Touto metodou lze zvýšit přidanou hodnotu a konkurenceschopnost jejich výrobků, a v neposlední řadě podpořit výrobu plazmových systémů. Snahou Centra je stát se respektovanou institucí známou výchovou vysoce kvalifikovaných mladých vědeckých pracovníků, kteří: - Mají odborné znalosti o moderních diagnostických metodách a plazmových úpravách. - Osvojili si myšlenkový vzorec systematické práce orientovaný na konkrétní cíl. - Mají vlastní zkušenosti s řízením projektů. - Jsou schopni rychle a účinně přizpůsobit metody plazmové a nanotechnologické úpravy povrchů novým technologickým procesům. The project aim is to establish the regional R&D center capable of fast, flexible and highly expert response on demands of mostly SME and corporate industrial partners in the field of plasma mediated low-cost nano-technological surface treatments. In the first years the Center will primarily provide practical and “high-tech” response to technological problems of the Czech SME partners arising from current implementation of strict environmental legislation of EU. The core activities of the Center will be focused on: - Completing technology transfer of DCSBD plasma generators into to commercial production lines - Development of advanced DCSBD plasma generators - Development of advanced plasma jet and microwave plasma systems - Identification of promising applications for plasma processing and evaluation of their economic potential - Performing consulting services and pilot test studies for industrial users interested in introducing plasma processing steps into their existing production lines.
dcterms:title
Regional R&D center for low-cost plasma and nanotechnology surface modifications Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
skos:notation
ED2.1.00/03.0086
n4:aktivita
n7:ED
n4:celkovaStatniPodpora
n5:celkovaStatniPodpora
n4:celkoveNaklady
n5:celkoveNaklady
n4:datumDodatniDoRIV
2015-04-02+02:00
n4:duvernostUdaju
n19:S
n4:fazeProjektu
n6:100450205
n4:hlavniObor
n10:BL
n4:kategorie
n11:IF
n4:klicovaSlova
plasma; atmospheric pressure discharge; surface properties
n4:partnetrHlavni
n17:orjk%3A14310
n4:pocetKoordinujicichPrijemcu
0
n4:pocetPrijemcu
1
n4:pocetSpoluPrijemcu
0
n4:pocetVysledkuRIV
216
n4:pocetZverejnenychVysledkuVRIV
216
n4:posledniUvolneniVMinulemRoce
2013-12-20+01:00
n4:prideleniPodpory
n15:MSMT-30688%2F2013-8
n4:sberDatUcastniciPoslednihoRoku
n14:2014
n4:sberDatUdajeProjZameru
n14:2014
n4:statusZobrazovaneFaze
n8:DRRVK
n4:typPojektu
n18:P
n4:ukonceniReseni
2014-12-31+01:00
n4:vedlejsiObor
n10:BM
n4:zahajeniReseni
2010-12-01+01:00
n4:zivotniCyklusProjektu
n13:ZBBBK
n4:klicoveSlovo
plasma atmospheric pressure discharge