This HTML5 document contains 24 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/kategorie/
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/soutez/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/projekt/GA0/GPP102/12/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/aktivita/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/smlouva/P102/12/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/druh-souteze/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/faze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n6http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/typ/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/poskytovatel/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#

Statements

Subject Item
n2:P443
rdf:type
n4:Projekt
dcterms:description
The proposed project is aimed at exploring the process of fabrication of nanostructures for spintronic applications and its influence on the properties of the final structures. In spintronics based on ferromagnetic metals, the structures are mostly made from sputter-deposited thin films (single layers and multilayers). The deposition method and its operational parameters influence not only the structural, morphological, electric and magnetic properties of thin films, but also the following patterning process. The research will focus on the combination of thin film deposition and nanopatterning. The possibilities how the patterning process (FIB and e-beam lithography) can be optimized in order to overcome inherent structural limitations for a given thin film (with unique, e.g. electrotransport properties) or how the thin film deposition process can be modified in order to achieve better patterning quality (and keeping the required properties of the thin film) will be studied. Navrhovaný projekt si klade za cíl prozkoumat proces přípravy nanostruktur pro spintroniku a jeho vliv na vlastnosti vyrobené struktury. Spintronické nanostruktury jsou většinou připravovány z naprašovaných tenkých vrstev a multivrstev. Depoziční metoda a parametry depozičního procesu ovlivňují nejen strukturu, morfologii, elektrické a magnetické vlastnosti deponované vrstvy, ale také následný litografický proces tvorby nanostruktur z deponované vrstvy. Výzkum bude zaměřen na spojení depozičního a litografického procesu. Budou studovány možnosti, jak může být litografický proces (FIB, elektronová litografie) optimalizován tak, aby obešel strukturální omezení daná tenkou vrstvou (která má např. unikátní elektrotransportní vlastnosti), nebo jak může být modifikován depoziční proces tak, aby mohlo být dosaženo lepší kvality nanostruktur při následném litografickém procesu (a zároveň byly zachovány požadované vlastnosti tenké vrstvy).
dcterms:title
Fabrication of metallic nanostructures for spintronic applications Výroba kovových nanostruktur pro aplikace ve spintronice
n4:cislo-smlouvy
n12:P443
n4:druh-souteze
n7:VS
n4:faze
n10:54476421
n4:hlavni-obor
n8:JA
n4:id-aktivity
n13:GP
n4:id-souteze
n11:SGA02011GA1PD
n4:kategorie
n5:1
n4:klicova-slova
spintronics; nanostructures; nanopattening; thin films; GMR - giant magnetoresistance; TMR - tunneli
n4:konec-reseni
2014-12-31+01:00
n4:pocet-koordinujicich-prijemcu
0
n4:poskytovatel
n9:GA0
n4:start-reseni
2012-01-01+01:00
n4:statni-podpora
1157
n4:typProjektu
n6:P
n4:uznane-naklady
1157
n4:pocet-prijemcu
1
n4:pocet-spoluprijemcu
0
n4:pocet-vysledku
0
n4:pocet-vysledku-zverejnovanych
0