This HTML5 document contains 23 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/soutez/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/kategorie/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/aktivita/
n4http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/
n6http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/druh-souteze/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/faze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/typ/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/projekt/GA0/GP202/02/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/poskytovatel/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#

Statements

Subject Item
n2:P021
rdf:type
n4:Projekt
dcterms:description
Předkládaný projekt se zabývá studiem proudících plazmatických kanálů v plazmochemickém reaktoru s dutými katodami při depozici tenkých vrstev. Účelem tohoto studia bude snaha o porozumění procesům v reaktivním plazmatu ovlivňujících růst tenkých vrstev.Toto studium by mělo umožnit lepší využití a optimalizaci těchto technologií. Výbojové plazma v dutých katodách a plazmatických kanálech bude buzeno RF, modulovaným RF, DC a DC pulzním zdrojem. Měření parametrů proudících kanálů bude realizováno pomocíemisní spektroskopie plazmatu spektrometrem TRIAX Joben Yvon vybaveného CCD detektorem citlivým v UV a viditelné oblasti a fotonásobičovým systémem s rychlou odezvou. Tyto experimenty budou dále doplněny měřením RF kompenzovanou Langmuirovou sondou.Měření parametrů plazmatu bude provedeno při depozici ZnO orientovaných polykrystalických vrstev (osa c kolmá k povrchu substrátu) a analogických vrstev dopovaných definovaným množstvím lithia. Pro tento účel bude použito reaktivní rozprašování Zn nebo Proposal project deals with a study of plasma jet channels in the plasma chemical reactor with hollow cathodes during the deposition of thin films. Purpose of this study will be a better understanding of processes in the reactive plasma effecting growthprocesses of deposited films. This study should extend applicability and lead to optimization of these technologies. Hollow cathode discharge plasma will be generated by RF, modulated RF, DC, and pulsed DC sources. Plasma jet parameters will be measuredby emission spectroscopy. Spectrometer TRIAX Joben Yvon equipped with UV-VIS CCD detector and with fast response photomultiplier detector will be used for that purpose. In addition a measurement with RF compensated Langmuir probe will be employed aswell. Investigation of the plasma parameters will be done during the deposition of oriented polycrystalline ZnO thin films (c axis perpendicular to the substrate surface) and those similar films doped by Lithium. For that purpose, Zn or composed Zn
dcterms:title
Studium fyzikálních vlastností a aplikací nízkotlakého plazmochemického reaktoru se systémem plazmatických kanálů pro depozici tenkých vrstev Investigation of physical properties and applications of the low pressure plasma-chemical reactor with the system plasma jet channels for thin films deposition
n4:dalsi-vedlejsi-obor
n12:CI
n4:druh-souteze
n6:VS
n4:faze
n8:21135043
n4:hlavni-obor
n12:BL
n4:vedlejsi-obor
n12:JP
n4:id-aktivity
n11:GP
n4:id-souteze
n9:SGA02002GA-PD
n4:kategorie
n5:1
n4:klicova-slova
Neuvedeno.
n4:pocet-koordinujicich-prijemcu
0
n4:poskytovatel
n10:GA0
n4:statni-podpora
676
n4:typProjektu
n7:P
n4:uznane-naklady
1800
n4:pocet-prijemcu
1
n4:pocet-spoluprijemcu
0
n4:pocet-vysledku
3
n4:pocet-vysledku-zverejnovanych
3