This HTML5 document contains 27 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/soutez/
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/kategorie/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/aktivita/
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/
n14http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/druh-souteze/
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/projekt/GA0/GAP108/11/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/faze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n6http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/typ/
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/smlouva/P108/11/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/poskytovatel/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/business-entity/

Statements

Subject Item
n2:1312
rdf:type
n3:Projekt
dcterms:description
Pulsed laser deposition (PLD) is well introduced technique for preparation of thin films. However, it has not been realized using a laser operating in the extremely ultraviolet (XUV) spectral range. Interaction of XUV light with matter exhibits several features, which makes it much different in respect to the effect of radiation incidence in ultraviolet, visible and infrared range. Photons of XUV radiation generated by repetition capillary laser of energy 26.4 eV are absorbed in the matter mainly via photoeffect. The bandgap width does not play any important role in the absorption of XUV radiation in the solid state matter. This is a novel unique utilization of XUV for PLD preparation of thin film of materials possessing negligible linear absorption in the UV-VIS-NIR spectral ranges, such as ionic crystals LiF, CaF2, MgF2. The part of this project is a comprehensive study of XUV laser plasma by means of optical emission and mass spectroscopy and mathematical modeling of plasma behavior. Structural, optical and fluorescence properties of the fabricated films will be analyzed. Pulsní laserová depozice (PLD) je velmi dobře zavedená metoda pro přípravu tenkých vrstev která však dosud nebyla realizována s laserem pracujícím v extrémně ultrafialovém (XUV) spektrálním oboru realizována. Interakce XUV záření s hmotou vykazuje řadu rysů, které ji výrazně odlišují od působení záření v ultrafialové, viditelné a infračervené oblasti. Fotony XUV záření produkované repetičním kapilárním laserem o energii 26,4 eV jsou v materiálu pohlcovány téměř výhradně fotoefektem a šířka zakázaného pásu materiálu nemá na absorpci XUV záření v pevné látce zásadní vliv. Jedná se o zcela unikátní využití XUV laseru pro PLD přípravu tenkých vrstev materiálů se zanedbatelnou lineární absorpci ve UV-Vis-NIR spektrálních oblastech, jakými jsou např. iontové krystaly LiF, CaF2, MgF2. Součástí projektu je komplexní studium XUV laserového plazmatu metodami optické a hmotnostní spektroskopie a matematické modelování plazmatu. Připravené vrstvy budou podrobeny komplexní analýze struktury, optických vlastností a fluorescence.
dcterms:title
Vytváření speciálních tenkých vrstev UV-Vis-NIR transparentních dielektric pomocí ablace repetičním kapilárním XUV laserem Fabrication of thin films of UV-Vis-NIR transparent dielectrics by repetitive, capillary-discharge XUV laser ablation
n3:cislo-smlouvy
n12:1312
n3:dalsi-vedlejsi-obor
n5:BL
n3:druh-souteze
n14:VS
n3:faze
n10:54237150
n3:hlavni-obor
n5:BM
n3:vedlejsi-obor
n5:BH
n3:hlavni-ucastnik
n9:ico-68378271
n3:id-aktivity
n13:GA
n3:id-souteze
n11:SGA02011GA-ST
n3:kategorie
n4:1
n3:klicova-slova
XUV laser ablation, ionic cystal, thin films
n3:konec-reseni
2015-12-31+01:00
n3:pocet-koordinujicich-prijemcu
0
n3:poskytovatel
n7:GA0
n3:start-reseni
2011-01-01+01:00
n3:statni-podpora
17367
n3:typProjektu
n6:P
n3:uznane-naklady
17367
n3:pocet-prijemcu
1
n3:pocet-spoluprijemcu
3
n3:pocet-vysledku
15
n3:pocet-vysledku-zverejnovanych
15