This HTML5 document contains 24 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/kategorie/
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/soutez/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n6http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/aktivita/
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n10http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/
n13http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/druh-souteze/
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/faze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/typ/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/poskytovatel/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/projekt/AV0/
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/smlouva/

Statements

Subject Item
n2:KJB100100707
rdf:type
n3:Projekt
dcterms:description
The low temperature deposition of high quality oxide thin films by the multi-plasma jet system will be investigated. Advanced methods of 'in situ' plasma diagnostics will be used and extended. The main interest will be to deposit ferroelectric Ba1-xSrxTiO3 and PbZr1-xTixO3 thin films at low temperature with good dielectric and ferroelectric properties. These parameters will be measured in a wide range of frequencies and temperatures. The main target will be to control the structure with the size of crystallites, accuracy of required chemical composition, density of defects as oxygen vacancies and dielectric properties in dependence on the measured plasma parameters. The doped and gradient perovskite films should be deposited as well. The next target will be to deposit high quality anatase nanocrystalline films with high quality of structure, low density of vacancies and precise stoichiometry. The main interests will be to obtain high deposition rate and good photocatalytic properties. Navrhovaný projekt bude zaměřen na nízkoteplotní depozici vybraných oxidových tenkých vrstev pomocí vícetryskového plazmového systému. K měření parametrů plazmatu v průběhu depozice budou použity a rozšířeny pokročilé diagnostické metody. Hlavním cílem bude depozice tenkých feroelektrických vrstev Ba1-xSrxTiO3 a PbZr1-xTixO3 za nízkých teplot s kvalitními dielektrickými a feroelektrickými vlastnostmi. Tyto parametry budou měřeny v širokém rozpětí frekvencí a teplot. Důraz bude kladen na kontrolovanou depozici z hlediska velikosti zrn, přesnosti požadovaného chemického složení, hustoty defektů, kyslíkových vakancí a dielektrických vlastností v závislosti na měřených parametrech plazmatu. Zvládnutí předchozích úkolů umožní deponovat gradientní perovskitové vrstvy. Dalším úkolem bude depozice vysoce kvalitních nanokrystalických vrstev anatasu s malou hustotou vakancí a přesnou stechiometrií. Cílem bude dosáhnout vysoké depoziční rychlosti a velmi dobrých fotokatalytických vlastností.
dcterms:title
Nízkoteplotní plazmatická depozice polykrystalických a nanokrystalických oxidových tenkých vrstev pomocí systému dutých katod Low-temperature plasmatic deposition of polycrystalline and nanocrystalline oxide thin films by systems with hollow cathodes
n3:cislo-smlouvy
n12:KJB100100707
n3:druh-souteze
n13:VS
n3:faze
n11:36956072
n3:hlavni-obor
n10:BL
n3:id-aktivity
n6:KJ
n3:id-souteze
n4:SAV02007-B
n3:kategorie
n5:1
n3:klicova-slova
thin films; hollow cathode sputtering; plasmajet; BSTO; PZT; TiOx; emission spectroscopy; langmuir probe; impedance
n3:konec-reseni
2009-12-31+01:00
n3:pocet-koordinujicich-prijemcu
0
n3:poskytovatel
n9:AV0
n3:start-reseni
2007-01-01+01:00
n3:statni-podpora
1618
n3:typProjektu
n7:P
n3:uznane-naklady
1618
n3:pocet-prijemcu
1
n3:pocet-spoluprijemcu
0
n3:pocet-vysledku
9
n3:pocet-vysledku-zverejnovanych
9