This HTML5 document contains 23 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

PrefixIRI
n12http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/kategorie/
n8http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/soutez/
dctermshttp://purl.org/dc/terms/
n7http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/aktivita/
n3http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n6http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/
n9http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/druh-souteze/
n11http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/faze/
rdfhttp://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n4http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/typ/
n5http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/poskytovatel/
xsdhhttp://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n2http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/projekt/AV0/

Statements

Subject Item
n2:IBS1010203
rdf:type
n3:Projekt
dcterms:description
Proposed project will be devoted to applied research and development of the new environmentally safe plasmatic technologies of thin films at the low temperatures of the substrate T< 80 deg C. New systems with plasma jets working at atmospheric pressures will be developed. Although research and development deals with these problems, this technology was not satisfactory mastered up to now. Main effort will be concentrated on the optically transparent thin oxide films deposited on plastic substrates. Particularly, it will be deposited doped ZnO, In2O3:Sn thin films and others similar which are suitable and required in industry applications. The next kind of deposited materials will be anti corrosive barrier coatings of aluminum alloys by Al2O3 and CeO2 films. 'In situ' measurement of plasma parameters and thin films properties will be correlated in order to optimize the deposition process. Navrhovaný projekt bude zaměřen na cílený výzkum a vývoj nových ekologických plazmatických technologií depozice tenkých vrstev při udržení nízkých teplot substrátu T < 80 st C. Vyvíjeny budou různé systémy s proudícími plazmovými kanály pracujících za atmosférického tlaku. Přestože výzkum a vývoj je v poslední době intenzivně zaměřen v tomto směru, problém těchto technologií nebyl dosud uspokojivě zvládnut. Pozornost bude zaměřena na tenké vrstvy opticky transparentních vodivých oxidů deponované na plastové substráty. Konkrétně půjde o dopované ZnO, In2O3:Sn vrstvy a podobně, které jsou vhodné a žádané pro aplikace v průmyslu. Další cílovým druhem deponovaných materiálů budou antikorozní bariérové povlaky hliníkových slitin vrstvami Al2O3 a CeO2. Měření vlastností plazmatu přímo při depozici a parametrů vrstev bude využito k optimalizaci depozičního procesu.
dcterms:title
Nové nízkoteplotní plazmatické technologie depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku New low temperature plasmatic technologies of thin films deposition at atmospheric pressure
n3:dalsi-vedlejsi-obor
n6:JB
n3:druh-souteze
n9:VS
n3:faze
n11:35255477
n3:hlavni-obor
n6:BL
n3:vedlejsi-obor
n6:JK
n3:id-aktivity
n7:IB
n3:id-souteze
n8:SAV02002-S
n3:kategorie
n12:21
n3:klicova-slova
atmospheric plasma;thin films deposition;plasma jet;barrier coatings;ellipsometry;emission spectroscopy
n3:pocet-koordinujicich-prijemcu
0
n3:poskytovatel
n5:AV0
n3:statni-podpora
4920
n3:typProjektu
n4:P
n3:uznane-naklady
9162
n3:pocet-prijemcu
1
n3:pocet-spoluprijemcu
0
n3:pocet-vysledku
8
n3:pocet-vysledku-zverejnovanych
8