This HTML5 document contains 23 embedded RDF statements represented using HTML+Microdata notation.

The embedded RDF content will be recognized by any processor of HTML5 Microdata.

Namespace Prefixes

Prefix	IRI
n11	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/kategorie/
n9	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/soutez/
dcterms	http://purl.org/dc/terms/
n10	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/aktivita/
n3	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/
n6	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/
n12	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/druh-souteze/
n8	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/faze/
rdf	http://www.w3.org/1999/02/22-rdf-syntax-ns#
n4	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/typ/
n7	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/poskytovatel/
xsdh	http://www.w3.org/2001/XMLSchema#
n2	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/projekt/AV0/

Statements

Subject Item

n2:IAA1010110

rdf:type

n3:Projekt

dcterms:description

The development of novel and modified thin film deposition techniques, study of their possibilities and characterization of discharge plasma is very important for creation of new types of thin films, multilayers, complex and doped layers, graded coatings, waveguiding films, nanostructures, etc. The improvement of present deposition systems, and construction of new hybrid deposition techniques, is necessary. Our attention will be focused on development of systems combining pulsed laser deposition witah concentrated RF and hollow cathode discharges, and magnetron sputtering. The RF biasing and laser modification of the film surface sill be also applied to inhance density and crystallization of the growing films. Formation processes in discharge plasma will be studied by diode-laser spectroscopy, OES, Langmuir probes and CCD camera. Films will be characterized by WDX, XRD, XPS, STM, SEM, Raman spectroscopy and spectroscopic ellipsometry. Microhardness and adhesion will be also tested. Vývoj nových a modifikovaných depozičních technik, studium jejich možností a charakterizace plazmy jsou velmi důležité pro tvorbu nových typů tenkých vrstev a multivrstev, složitých a dopovaných vrstev, gradovaných pokrytí a vrstev s proměnným materiálovým profilem, vlnovodových vrstev, nanostruktur, atd. Tyto úkoly vyžadují zdokonalení současné depoziční techniky a vývoj nových hybridních depozičních systémů. Naše pozornost bude soustředěna na vývoj systémů kombinujících pulsní laserovou depozici s RF výboje, výbojem v duté katodě a s magnetronovým naprašováním. Zlepšené krystalizace a zhutnění vrstev bude dosaženo pomocí RF polarizace a laserové modifikace povrchu podložky. Procesy ve výbojovém plazmatu budou studovány pomocí diodové laserové spektroskopie, OES, Langmuirovských sond a CCD kamery. Vrstvy budou charakterizovány pomocí WDX, XRD, XPS, STM, SEM, Ramanovské spektroskopie a spektroskopické elipsometrie. Měřeny budou také mikrotvrdost a adheze vrstev.

dcterms:title

Novel Laser-based Hybrid Technologies for thin Film Deposition Nové laserové hybridní technologie pro depozici tenkých vrstev

n3:dalsi-vedlejsi-obor

n6:JK

n3:druh-souteze

n12:VS

n3:faze

n8:35234946

n3:hlavni-obor

n6:BL

n3:vedlejsi-obor

n6:BM

n3:id-aktivity

n10:IA

n3:id-souteze

n9:SAV0-AB2001

n3:kategorie

n11:1

n3:klicova-slova

Pulsed laser deposition; thin films; laser plasma; hybrid deposition techniques; radiofrequency discharge; hollow cathode discharge; optical emission spectroscopy; magnetron sputtering; plasma processes

n3:pocet-koordinujicich-prijemcu

1

n3:poskytovatel

n7:AV0

n3:statni-podpora

3736

n3:typProjektu

n4:P

n3:uznane-naklady

11286

n3:pocet-prijemcu

2

n3:pocet-spoluprijemcu

0

n3:pocet-vysledku

45

n3:pocet-vysledku-zverejnovanych

45