About: Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
Description	Práce prezentuje metodu určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti s využitím nové varianty obálkové metody. Byl nalezen lineární vztah mezi vlnovou délkou tečny spektrální odrazivosti k obálkové funkci a odpovídající tloušťkou tenké vrstvy pro daný interferenční řád v širokém spektrálním oboru. Tento lineární vztah umožňuje výpočet tloušťky vrstvy na základě známých spektrálních optických parametrů vrstvy a podložky. Metoda umožňuje výpočet tloušťky ze znalostí pouze malé části spektra v okolí jednoho extrému, jak je demonstrováno teoreticky a experimentálně na systému SiO2-Si. Výsledky jsou porovnány s hodnotami získanými algebraickou fitovací metodou. Práce prezentuje metodu určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti s využitím nové varianty obálkové metody. Byl nalezen lineární vztah mezi vlnovou délkou tečny spektrální odrazivosti k obálkové funkci a odpovídající tloušťkou tenké vrstvy pro daný interferenční řád v širokém spektrálním oboru. Tento lineární vztah umožňuje výpočet tloušťky vrstvy na základě známých spektrálních optických parametrů vrstvy a podložky. Metoda umožňuje výpočet tloušťky ze znalostí pouze malé části spektra v okolí jednoho extrému, jak je demonstrováno teoreticky a experimentálně na systému SiO2-Si. Výsledky jsou porovnány s hodnotami získanými algebraickou fitovací metodou. (cs) This paper deals with an alternative method to determine the thickness of a thin film on a substrate. A linear relation between the thin-film thickness and the wavelength of the reflectance spectrum tangent to the envelope function for specific interference order is revealed in a wide wavelength range. This relation enables the calculation of the thickness provided that the wavelength-dependent optical parameters of the thin film and the substrate are known. The methods allow to calculate the thickness from the reflectance spectrum in a narrow range close to one extreme only as demonstrated both theoretically and experimentally for SiO2 thin-films on Si substrates. The results are discussed for two wavelength ranges and compared with those obtained by the algebraic fitting method. (en)
Title	Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody Thin-Film Thickness Determination from a Spectral Reflectance Measurement by Using an Alternative Envelope Method (en) Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody (cs)
skos:prefLabel	Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody Thin-Film Thickness Determination from a Spectral Reflectance Measurement by Using an Alternative Envelope Method (en) Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody (cs)
skos:notation	RIV/68407700:21340/09:00164951!RIV10-MSM-21340___
http://linked.open...avai/riv/aktivita	Z
http://linked.open...avai/riv/aktivity	Z(MSM6198910016), Z(MSM6840770021)
http://linked.open...iv/cisloPeriodika	6
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2010
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Potůček, Zdeněk
http://linked.open.../riv/druhVysledku	J - Článek v odborném periodiku
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...titaPredkladatele	České vysoké učení technické v Praze / Fakulta jaderná a fyzikálně inženýrská
http://linked.open...dnocenehoVysledku	347788
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/68407700:21340/09:00164951
http://linked.open...riv/jazykVysledku	cze - čeština
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	spectral reflectance; thin film; envelope method; absorption (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	spectral reflectance absorption thin film envelope method
http://linked.open...odStatuVydavatele	CZ - Česká republika
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[6609E21873E6]
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje	Jemná mechanika a optika
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BM
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	1 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	4 (xsd:int)
http://linked.open...UplatneniVysledku	2009
http://linked.open...v/svazekPeriodika	54
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Potůček, Zdeněk
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer	Syntéza, struktura a vlastnosti nanomateriálů založených na bázi interkalovaných fylosylikátů Characterization of materials
issn	0447-6441
number of pages	4 (xsd:int)
http://localhost/t...ganizacniJednotka	21340
is http://linked.open...avai/riv/vysledek of	Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody Určení tloušťky tenké vrstvy z měření spektrální odrazivosti pomocí nové varianty obálkové metody

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 84 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software