| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| Description
| - There are currently commercial technologies for the automatic control of the deposition process. These devices are designed and tailored for the specific applications and the installation of a permanent process of production, or deposition of thin films. They are available as an integrated part of the whole system, the reactor vessel, power supplies, vacuum pumping and filling part. Moreover these systems are difficult to implement into the different systems. Incompatibles are characterized by very high costs. For our conditions, it was necessary to develop a similar equipment which is not too extensive, allows for quick and easy installation to frequently, even daily-changing experiment and experimental device. In our particular case, the main requirement programmable movement of the sample holder on which the layer is to be deposited. For these purposes has been developed computer-controlled system that was eventually expanded to include additional features. (en)
- V současné době existují komerční technologická zařízení pro automatické řízení depozičního procesu. Tato zařízení jsou určena a uzpůsobena pro konkrétní aplikaci a po instalaci k trvalému procesu výroby, respektive depozice tenkých vrstev. Dodávají se jako integrovaná součást celého systému, reaktorové nádoby, napájecích zdrojů, čerpací vakuové a napouštěcí části. Tyto systémy, kromě toho, že je problematické je snadno implementovat na systémy jiné, nekompatibilní, se vyznačují velmi vysokými náklady. Pro naše podmínky bylo nutno vyvinout podobné zřízení, které není příliš rozsáhlé, umožňuje rychlou a jednoduchou montáž k často, třeba denně se měnícím experimentům a experimentálním zařízením. V našem konkrétním případě byl hlavním požadavkem programovatelný pohyb držáku vzorků, na nichž má být deponována vrstva. Pro tyto účely byl vyvinut počítačem řízený systém, který byl nakonec rozšířen o další funkce.
- V současné době existují komerční technologická zařízení pro automatické řízení depozičního procesu. Tato zařízení jsou určena a uzpůsobena pro konkrétní aplikaci a po instalaci k trvalému procesu výroby, respektive depozice tenkých vrstev. Dodávají se jako integrovaná součást celého systému, reaktorové nádoby, napájecích zdrojů, čerpací vakuové a napouštěcí části. Tyto systémy, kromě toho, že je problematické je snadno implementovat na systémy jiné, nekompatibilní, se vyznačují velmi vysokými náklady. Pro naše podmínky bylo nutno vyvinout podobné zřízení, které není příliš rozsáhlé, umožňuje rychlou a jednoduchou montáž k často, třeba denně se měnícím experimentům a experimentálním zařízením. V našem konkrétním případě byl hlavním požadavkem programovatelný pohyb držáku vzorků, na nichž má být deponována vrstva. Pro tyto účely byl vyvinut počítačem řízený systém, který byl nakonec rozšířen o další funkce. (cs)
|
| Title
| - Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu
- Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu (cs)
- Programmable system for monitoring and control of thin film deposition plasma systems (en)
|
| skos:prefLabel
| - Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu
- Programovatelný systém pro monitorování a řízení depozice tenkých vrstev v plazmatu (cs)
- Programmable system for monitoring and control of thin film deposition plasma systems (en)
|
| skos:notation
| - RIV/68378271:_____/13:00424534!RIV14-AV0-68378271
|
| http://linked.open...avai/predkladatel
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
| http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
| http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
| http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open...onomickeParametry
| - V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli automatizovaný systém pro monitorování a řízení procesu depozice tenkých vrstev v plazmatu. Laboratorní zařízení je nezbytné pro další aplikovaný výzkum
|
| http://linked.open...titaPredkladatele
| |
| http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
| http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68378271:_____/13:00424534
|
| http://linked.open...terniIdentifikace
| |
| http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
| http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
| http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - pohyb substrátu; PC řízený (en)
|
| http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
| http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
| http://linked.open.../licencniPoplatek
| |
| http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
| http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
| http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
| http://linked.open...echnickeParametry
| - Rychlost 85 KSPS, přesnost měření je 0,024%, vstupní napětí +- 10 V
|
| http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Adámek, Petr
- Kment, Štěpán
- Olejníček, Jiří
- Hubička, Zdeněk
- Čada, Martin
|
| http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
| http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)