Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
rdfs:seeAlso
| |
Description
| - Technické řešení spadá do oblasti technologických postupů depozice tenkých perovskitových, a to dielektrických, piezoelektrických i ferroelektrických, vrstev s využitím plazmochemických reakcí a pulzním ohřevem substrátu. Týká se konstrukce systému zejména pro realizaci depozice tenkých nanokrystalických vrstev Pb(ZrxTi1-x)O3 (dále vrstev PZT) za nízké teploty na polymerový substrát nebo na polymerový substrát s kovovou elektrodou.
- Technické řešení spadá do oblasti technologických postupů depozice tenkých perovskitových, a to dielektrických, piezoelektrických i ferroelektrických, vrstev s využitím plazmochemických reakcí a pulzním ohřevem substrátu. Týká se konstrukce systému zejména pro realizaci depozice tenkých nanokrystalických vrstev Pb(ZrxTi1-x)O3 (dále vrstev PZT) za nízké teploty na polymerový substrát nebo na polymerový substrát s kovovou elektrodou. (cs)
- The technical solution falls within the technological processes of deposition of thin perovskite, especially dielectric, piezoelectric and ferroelectric, films using plasma-chemical reactions and pulsed heating of the substrate. This applies especially for system design for implementation of deposition of thin films of nanocrystalline Pb (ZrxTi1-x)O3 (further PZT layers) at low temperature on the polymer substrate or on a polymer substrate with a metal electrode. (en)
|
Title
| - Plazmový systém určený pro depozici perovskitových tenkých vrstev
- Plazmový systém určený pro depozici perovskitových tenkých vrstev (cs)
- Plasma system developed for deposition of perovskite thin films (en)
|
skos:prefLabel
| - Plazmový systém určený pro depozici perovskitových tenkých vrstev
- Plazmový systém určený pro depozici perovskitových tenkých vrstev (cs)
- Plasma system developed for deposition of perovskite thin films (en)
|
skos:notation
| - RIV/68378271:_____/12:00383946!RIV13-TA0-68378271
|
http://linked.open...avai/predkladatel
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(GAP205/11/0386), P(GC202/09/J017), P(TA01010517), Z(AV0Z10100522)
|
http://linked.open...cisloPatentuVzoru
| |
http://linked.open...eleniPatentuVzoru
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68378271:_____/12:00383946
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - plasma; magnetron sputtering; plasma-jet; PZT thin films (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open.../licencniPoplatek
| |
http://linked.open...ydaniPatentuVzoru
| |
http://linked.open...atelePatentuVzoru
| - Úřad průmyslového vlastnictví
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...ydaniPatentuVzoru
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Adámek, Petr
- Dejneka, Alexandr
- Jastrabík, Lubomír
- Kment, Štěpán
- Olejníček, Jiří
- Hubička, Zdeněk
- Suchaneck, G.
- Čada, Martin
- Straňák, Vítězslav
|
http://linked.open...mniOchranaPatentu
| |
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
http://linked.open...uzitiPatentuVzoru
| |
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |