About: Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
Description	V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli hybridní plazmatický systém se dvěma magnetrony a systémem duté katody, který je určen pro pulzní HIPIMS+MF reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely. V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli hybridní plazmatický systém se dvěma magnetrony a systémem duté katody, který je určen pro pulzní HIPIMS+MF reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely. (cs) Hybrid plasmatic system was developed in frame of grant TACR. The system contains two magnetrons and the hollow cathode system for HIPIMS+MF reactive sputtering of optical thin films. The system is suitable for research purposes. (en)
Title	Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes (en) Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely (cs)
skos:prefLabel	Hybrid plasmatic pulse system HIPIMS+MF for reactive sputtering of optical thin films for laboratory and research purposes (en) Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely Hybridní plazmatický pulzní HIPIMS+MF systém pro reaktivní naprašování optických tenkých vrstev pro laboratorní a testovací účely (cs)
skos:notation	RIV/68378271:_____/11:00371285!RIV12-AV0-68378271
http://linked.open...avai/predkladatel	Fyzikální ústav AV ČR, v.v.i.
http://linked.open...avai/riv/aktivita	P Z
http://linked.open...avai/riv/aktivity	P(TA01010517), Z(AV0Z10100522)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2012
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Čada, Martin Hubička, Zdeněk Kment, Štěpán Jastrabík, Lubomír Straňák, Vítězslav Šmíd, Jiří Dejneka, Alexandr
http://linked.open.../riv/druhVysledku	G/B - Funkční vzorek
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...onomickeParametry	Laboratorní zařízení nezbytné pro další aplikovaný výzkum
http://linked.open...titaPredkladatele	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
http://linked.open...dnocenehoVysledku	203063
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/68378271:_____/11:00371285
http://linked.open...terniIdentifikace	FS1/FZÚ/2011
http://linked.open...riv/jazykVysledku	cze - čeština
http://linked.open...vai/riv/kategorie	A - Do 5 mil. Kč
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	sputtering; optical thin films; plasma; deposition; magnetron; hollow cathode (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	sputtering plasma magnetron deposition hollow cathode optical thin films
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[440B82E65CF5]
http://linked.open.../licencniPoplatek	A - Poskytovatel licence na výsledek požaduje licenční poplatek
http://linked.open...okalizaceVysledku	Sekce optika, Oddělení nízkoteplotního plazmatu, FZÚ AV ČR, v.v
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BH
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	7 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	7 (xsd:int)
http://linked.open...vavai/riv/projekt	Modern multilayer optical structures.
http://linked.open...UplatneniVysledku	2011
http://linked.open...echnickeParametry	Magnetronové dělo M1, M2- rozměr terče: 50 mm. Maximální výstupní napětí HIPIMS zdroje: 1000 V Maximální proud v pulzu HIPIMS zdroje: 200 A Maximální střední proud magnetronem: 1A
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Dejneka, Alexandr Jastrabík, Lubomír Kment, Štěpán Šmíd, Jiří Hubička, Zdeněk Čada, Martin Straňák, Vítězslav
http://linked.open...avai/riv/vlastnik	Fyzikální ústav AV ČR, v.v
http://linked.open...itiJinymSubjektem	A - Nabytí licence je nutné vždy
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer	Wave and Corpuscular Light Propagation, Optical Materials and Technology

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 41 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software