Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Byly změřeny tlaky nasycených par dvou organometalických prekurzorů Y(thd)3 Zr(thd)4, používaných při růstu vysokoteplotních supravodičů metodou MOCVD. Experimentální výsledky byly proloženy teoretickou křivkou a představují nejnovější údaje pro materiály s vysokou čistotou ve srovnání s dříve publikovanými údaji (cs)
- The vapour pressure of two metal organic precursors, Y(thd)3 and Zr(thd)4 used for metal organic chemical vapour deposition of high-temperature superconductor layers, was measured. The experimental data were fitted and represent updated values of the present day high-purity materials providing comparison with the previously published data
- The vapour pressure of two metal organic precursors, Y(thd)3 and Zr(thd)4 used for metal organic chemical vapour deposition of high-temperature superconductor layers, was measured. The experimental data were fitted and represent updated values of the present day high-purity materials providing comparison with the previously published data (en)
|
Title
| - Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd)3 and Zr(thd)4./sub
- Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd)3 and Zr(thd)4./sub (en)
- Tlak nasycených par a měrná teplota organometalických prekurzorů Y(thd)3 and Zr(thd)4./sub (cs)
|
skos:prefLabel
| - Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd)3 and Zr(thd)4./sub
- Vapour pressure and heat capacities of metal organic precursors, Y(thd)3 and Zr(thd)4./sub (en)
- Tlak nasycených par a měrná teplota organometalických prekurzorů Y(thd)3 and Zr(thd)4./sub (cs)
|
skos:notation
| - RIV/68378271:_____/04:00100075!RIV/2005/AV0/A02005/N
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...iv/cisloPeriodika
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68378271:_____/04:00100075
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - static method; vapour pressure; metalorganic chemical vapor deposition; Y and Zr precursors; .alpha.-diketonate complexes (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...odStatuVydavatele
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Journal of Crystal Growth
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...v/svazekPeriodika
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Hulicius, Eduard
- Pangrác, Jiří
- Fulem, Michal
- Růžička, V.
- Růžička, K.
- Šimeček, Tomislav
|
issn
| |
number of pages
| |