About: Plasmochemical Etching of Silicon in Diener Nano Device

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Plasmochemical Etching of Silicon in Diener Nano Device Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
Description	This article deals with plasma etching of Si in a CF4/O2 mixture. This is a common way of Si etching used in micro- and nanofabrication. We determined important parameters such as etching rates and selectivity of Si and PMMA of the process. Experimental part was carried out on plasma system Diener nano. (en) Jedním z klíčových procesů při výrobě mikro a nanostruktur je opracování povrchů různých materiálů. K opracování povrchu materiálu lze použít metod suchého leptání, jejichž rozvoj nastal s vyššími nároky na leptací techniky kvůli miniaturizaci v mikro a nanotechnologiích. Za jednu z nejpoužívanějších metod pro zápis mikroa nanostruktur ve výzkumu se v současnosti považuje elektronová litografie. K dalšímu zpracování vytvářených struktur se pak používá suché leptání využívající ionizovaného plynu (plazmatu). Techniky suchého leptání se rozdělují podle mechanismu na tři základní skupiny: chemické, fyzikální a chemicko-fyzikální. Z hlediska selektivity leptání se jako vhodný jeví první z uvedených mechanismů, založený na chemické reakci mezi částicemi, které vzniknou ionizací plynu (leptadla) a částicemi leptaného materiálu. Tento proces pak bývá označován jako plazmochemické leptání. Jedním z klíčových procesů při výrobě mikro a nanostruktur je opracování povrchů různých materiálů. K opracování povrchu materiálu lze použít metod suchého leptání, jejichž rozvoj nastal s vyššími nároky na leptací techniky kvůli miniaturizaci v mikro a nanotechnologiích. Za jednu z nejpoužívanějších metod pro zápis mikroa nanostruktur ve výzkumu se v současnosti považuje elektronová litografie. K dalšímu zpracování vytvářených struktur se pak používá suché leptání využívající ionizovaného plynu (plazmatu). Techniky suchého leptání se rozdělují podle mechanismu na tři základní skupiny: chemické, fyzikální a chemicko-fyzikální. Z hlediska selektivity leptání se jako vhodný jeví první z uvedených mechanismů, založený na chemické reakci mezi částicemi, které vzniknou ionizací plynu (leptadla) a částicemi leptaného materiálu. Tento proces pak bývá označován jako plazmochemické leptání. (cs)
Title	Plasmochemical Etching of Silicon in Diener Nano Device (en) Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano (cs)
skos:prefLabel	Plasmochemical Etching of Silicon in Diener Nano Device (en) Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano Plazmochemické leptání křemíku v zařízení Diener nano (cs)
skos:notation	RIV/68081731:_____/14:00429848!RIV15-MSM-68081731
http://linked.open...avai/riv/aktivita	P
http://linked.open...avai/riv/aktivity	P(LO1212)
http://linked.open...iv/cisloPeriodika	6
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2015
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Horáček, Miroslav Kolařík, Vladimír Matějka, Milan Urbánek, Michal Krátký, Stanislav
http://linked.open.../riv/druhVysledku	J - Článek v odborném periodiku
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...titaPredkladatele	Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i.
http://linked.open...dnocenehoVysledku	36859
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/68081731:_____/14:00429848
http://linked.open...riv/jazykVysledku	cze - čeština
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	plasmochemical etching; silicon; etching rate; selectivity (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	etching rate plasmochemical etching silicon selectivity
http://linked.open...odStatuVydavatele	CZ - Česká republika
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[E05BE4D402E1]
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje	Chemické listy
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	JA
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	5 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	5 (xsd:int)
http://linked.open...vavai/riv/projekt	ALISI - Centre of advanced diagnostic methods and technologies
http://linked.open...UplatneniVysledku	2014
http://linked.open...v/svazekPeriodika	108
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Horáček, Miroslav Matějka, Milan Urbánek, Michal Kolařík, Vladimír Krátký, Stanislav
http://linked.open...ain/vavai/riv/wos	000344828700006
issn	0009-2770
number of pages	4 (xsd:int)

Faceted Search & Find service v1.16.116 as of Feb 22 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3239 as of Feb 22 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 67 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software