Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Implementation of electron beam writing technology with a shaped rectangular electron beam of variable size, the beam size being adjusted independently in both axes in the range 66-2100 nm with the step of 33 nm. (en)
- Realizace technologie zápisu elektronovým svazkem obdélníkového tvaru proměnné velikosti, nastavitelné nezávisle v každém směru v rozsahu 66-2100 nm s krokem 33 nm.
- Realizace technologie zápisu elektronovým svazkem obdélníkového tvaru proměnné velikosti, nastavitelné nezávisle v každém směru v rozsahu 66-2100 nm s krokem 33 nm. (cs)
|
Title
| - Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm
- Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm (cs)
- E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm (en)
|
skos:prefLabel
| - Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm
- Technologie zápisu elektronovým svazkem proměnné velikosti 66 - 2100 nm (cs)
- E-Beam Writing Technology with Variable Beam Size of 66 - 2100 nm (en)
|
skos:notation
| - RIV/68081731:_____/09:00336589!RIV10-MPO-68081731
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...onomickeParametry
| - Desetkrát vyšší proudová hustota umožňuje zvýšit základní expoziční dobu až desetkrát, což má přímý vliv na produktivitu. Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožňuje realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
|
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68081731:_____/09:00336589
|
http://linked.open...terniIdentifikace
| |
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - electron beam lithography; shaped electron beam (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...okalizaceVysledku
| - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v.v
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...echnickeParametry
| - Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 1,8 – 3,6 – 14,4 A/cm2. Otočení souřadnic tvarování, vychylování a posuvu substrátu: -45 stupňů.
|
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Horáček, Miroslav
- Lencová, Bohumila
- Matějka, Milan
- Urbánek, Michal
- Horák, R.
- Kolařík, Vladimír
- Matějka, František
- Král, Stanislav
- Mikšík, P.
- Vašina, J.
|
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
is http://linked.open...avai/riv/vysledek
of | |