| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| Description
| - Effusion cell was constructed for the deposition of organic compounds in the high vacuum conditions. When compared with commercially available cells, it differs mainly by using a special corrosion resistant coaxial heating element and also by a unique design of its arrangement. The temperature of source material is measured with a thermocouple which is located in the platform holder for alumina container. Special construction allows defined heating of the source material by thermal radiation in the range from room temperature up to 600°C. The cell design ensures a high temperature stability and homogeneity throughout the whole volume of the organic source material. These properties are essential for vacuum deposition of organic substances. During development of the cell we optimized its design using thermal imaging diagnostics. The device was made in total count of 3 pieces. (en)
- V rámci vývoje byl navržen a zkonstruován systém pro průběžné monitorování rezistance aktivní vrstvy senzorů během procesu připrašování katalytického kovu. Připravované součástky-senzory mají elektrickou výstupní veličinu, a proto je možnost kontinuálního sledování hodnot rezistance v průběhu jejich výroby naprosto klíčová. Dotyčný systém (funkční vzorek) se skládá ze speciálního adaptéru obsahujícího patici pro senzor, precizní masky zabraňující depozici kovu mimo aktivní vrstvu, redukčního vakuového kusu s průchodkou pro elektrické vodiče, multimetru a měřicího PC vybaveného programem, který zaznamenává a vyhodnocuje změny rezistance aktivní vrstvy senzoru jako funkci času. Systém byl navržen primárně pro použití s naprašovačkou DENTON HP V Desk TSC, ale je možné ho adaptovat i pro jiné zařízení. Pro měření rezistance je v systému použit multimetr Agilent 34410A, který umožnuje měřit rezistanci senzoru v rozsahu od 1 GOhmu až do jednotek mikroOhmu. Multimetr je připojen k měřicímu PC přes sběrnici USB. Pro měření depoziční rychlosti je použita QCM mikrováha Inficon SQM-160. Ovládací program byl vytvořen v prostředí NI LabVIEW 2012. Při testech systému se prokázalo, že jej lze využít pro zastavení depozice katalytických nanočástic v přesně definované oblasti tzv. perkolačního prahu, což zajistí maximální citlivost připravovaných senzorů.
- V rámci vývoje byl navržen a zkonstruován systém pro průběžné monitorování rezistance aktivní vrstvy senzorů během procesu připrašování katalytického kovu. Připravované součástky-senzory mají elektrickou výstupní veličinu, a proto je možnost kontinuálního sledování hodnot rezistance v průběhu jejich výroby naprosto klíčová. Dotyčný systém (funkční vzorek) se skládá ze speciálního adaptéru obsahujícího patici pro senzor, precizní masky zabraňující depozici kovu mimo aktivní vrstvu, redukčního vakuového kusu s průchodkou pro elektrické vodiče, multimetru a měřicího PC vybaveného programem, který zaznamenává a vyhodnocuje změny rezistance aktivní vrstvy senzoru jako funkci času. Systém byl navržen primárně pro použití s naprašovačkou DENTON HP V Desk TSC, ale je možné ho adaptovat i pro jiné zařízení. Pro měření rezistance je v systému použit multimetr Agilent 34410A, který umožnuje měřit rezistanci senzoru v rozsahu od 1 GOhmu až do jednotek mikroOhmu. Multimetr je připojen k měřicímu PC přes sběrnici USB. Pro měření depoziční rychlosti je použita QCM mikrováha Inficon SQM-160. Ovládací program byl vytvořen v prostředí NI LabVIEW 2012. Při testech systému se prokázalo, že jej lze využít pro zastavení depozice katalytických nanočástic v přesně definované oblasti tzv. perkolačního prahu, což zajistí maximální citlivost připravovaných senzorů. (cs)
|
| Title
| - System for in-situ measurement of resistivity of sensor active layer during the deposition of catalytic nanoparticles. (en)
- Systém pro in-situ měření rezistance aktivních senzorických vrstev v průběhu depozice katalytických nanočástic.
- Systém pro in-situ měření rezistance aktivních senzorických vrstev v průběhu depozice katalytických nanočástic. (cs)
|
| skos:prefLabel
| - System for in-situ measurement of resistivity of sensor active layer during the deposition of catalytic nanoparticles. (en)
- Systém pro in-situ měření rezistance aktivních senzorických vrstev v průběhu depozice katalytických nanočástic.
- Systém pro in-situ měření rezistance aktivních senzorických vrstev v průběhu depozice katalytických nanočástic. (cs)
|
| skos:notation
| - RIV/60461373:22340/12:43894375!RIV13-GA0-22340___
|
| http://linked.open...avai/predkladatel
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
| http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
| http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
| http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open...onomickeParametry
| - Systém umožnuje optimalizovat připrašování katalytických nanočástic na aktivní vrstvy senzorů. Depozice nanočástic je průběžně monitorována a je možne ji zastavit za optimálních podmínek vzhledem k vlastnostem senzoru. V důsledku toho je možné minimalizovat ztráty připrašovaných kovů (Pt,Pd atd) - v důsledku toho je možné snížit provozní ztráty. Systém byl dosud vyroben v počtu 1 ks.
|
| http://linked.open...titaPredkladatele
| |
| http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
| http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/60461373:22340/12:43894375
|
| http://linked.open...terniIdentifikace
| |
| http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
| http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
| http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - in-situ measurement of resistivity, nanoparticles, sensors, catalysis (en)
|
| http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
| http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
| http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
| http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
| http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
| http://linked.open...echnickeParametry
| - příjemce je zároveň uživatelem, smlouva o využití se dle pravidel neuzavírá
|
| http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Vrňata, Martin
- Fitl, Přemysl
- Kopecký, Dušan
- Bulíř, Jiří
- Vlček, Jan
- Škodová, Jitka
|
| http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
| http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
| http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)