| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| Description
| - Water dosing system of High Temperature Helium Loop is based on special dosing valve (1 batch = approximately 0,1 ml). This valve is situated in the dosing, purification a purity control system of the loop. System of water content determination is based on three-channel system BARTEC Hygrpophil F 5673 working on the principle of measurment of the change of infrared light wavelenght. This system is suitable particularly for determination of very low concentration of water in the gas (1 wppm nad higher). Another advantage of this system is that the sensors need only one calibration (before first use of the system). The data of water content in the gas can be collected to the central computer of the loop. Position of the sensors: one in the inlet to the helium dosing, purification and purity control system, one behind molecular sieve adsorbers and one in the outlet of the helium dosing, purification and purity control system (behind the low temperature adsorber). (en)
- Dávkování vody do proudu plynu ve vysokoteplotní héliové experimentální smyčce je řešeno pomocí speciálního dávkovacího ventilu umístěného v okruhu dávkování nečistot, čištění a kontroly čistoty plynu. Dávkovat lze přibližně 0,1 ml na jednu dávku. Systém monitorování nízkých koncentrací vlkosti v plynu je založen na tříkanálovém analyzátoru vlhkosti BARTEC Hygrpophil F 5673. Tento systém je obzvláště vhodný pro měřený nízkých koncentrací vlhkosti v plynu (od 1 wppm). Údaje o koncentraci vlhkosti během provozu smyčky mohou být zaznamenávány a uchovávány v řídicím počítači smyčky. Senzory systému jsou umístěny: 1. na vstupu do systému okruhu dávkování nečistot, čištění a kontroly čistoty helia, 2. za adsorbery s molekulovými síty, 3. na výstupu ze systému dávkování nečistot, čištění a kontroly čistoty helia (tj. za nízkoteplotním adsorberem).
- Dávkování vody do proudu plynu ve vysokoteplotní héliové experimentální smyčce je řešeno pomocí speciálního dávkovacího ventilu umístěného v okruhu dávkování nečistot, čištění a kontroly čistoty plynu. Dávkovat lze přibližně 0,1 ml na jednu dávku. Systém monitorování nízkých koncentrací vlkosti v plynu je založen na tříkanálovém analyzátoru vlhkosti BARTEC Hygrpophil F 5673. Tento systém je obzvláště vhodný pro měřený nízkých koncentrací vlhkosti v plynu (od 1 wppm). Údaje o koncentraci vlhkosti během provozu smyčky mohou být zaznamenávány a uchovávány v řídicím počítači smyčky. Senzory systému jsou umístěny: 1. na vstupu do systému okruhu dávkování nečistot, čištění a kontroly čistoty helia, 2. za adsorbery s molekulovými síty, 3. na výstupu ze systému dávkování nečistot, čištění a kontroly čistoty helia (tj. za nízkoteplotním adsorberem). (cs)
|
| Title
| - Systém přesného dávkování vody a přesného určení nízkých koncentrací vlhkosti pro vysokoteplotní héliovou experimentální smyčku
- System for accurate water dosing and trace water determination in gas for High Temperature Helium Loop (en)
- Systém přesného dávkování vody a přesného určení nízkých koncentrací vlhkosti pro vysokoteplotní héliovou experimentální smyčku (cs)
|
| skos:prefLabel
| - Systém přesného dávkování vody a přesného určení nízkých koncentrací vlhkosti pro vysokoteplotní héliovou experimentální smyčku
- System for accurate water dosing and trace water determination in gas for High Temperature Helium Loop (en)
- Systém přesného dávkování vody a přesného určení nízkých koncentrací vlhkosti pro vysokoteplotní héliovou experimentální smyčku (cs)
|
| skos:notation
| - RIV/46356088:_____/09:#0000814!RIV10-MSM-46356088
|
| http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(2A-1TP1/100), Z(MSM2672244501)
|
| http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
| http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
| http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open...onomickeParametry
| - možňuje využít vysokoteplotní heliovou smyčku při projektech zaměřených na výzkum koroze vysokoteplotních konstrukčních materiálů v plynu s definovaným a monitorovaným obsahem vlhkosti.
|
| http://linked.open...titaPredkladatele
| |
| http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
| http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/46356088:_____/09:#0000814
|
| http://linked.open...terniIdentifikace
| - Stanoveni vlhkosti pro HTHL
|
| http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
| http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
| http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - High Temperature Helium Loop; water content monitoring; BARTEC; Hygrometer; HTR; Gas Moisture (en)
|
| http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
| http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
| http://linked.open...okalizaceVysledku
| - ÚJV Řež, a.s., technologická hala, na HTHL smyčce
|
| http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
| http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
| http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
| http://linked.open...echnickeParametry
| - minimální dávkování: 0,1 ml, mez stanovitelnosti vlhkosti: 1wppm, pracovní teplota max. 80°C
|
| http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Berka, Jan
- Hájek, Petr
- Víden, Ivan
- Prokeš, Ondřej
- Všolák, Rudof
|
| http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
| http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
| http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)