About: Capacitive coupling plasma system for thin film deposition

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Capacitive coupling plasma system for thin film deposition Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
Description	Plasma polymerization is a powerful tool for deposition of thin films whose physicochemical properties can be controlled in wide ranges and thus the technology enables tailoring of the material with respect to an application. However, a success of the coating technique depends on a suitable technological system, as the vacuum quality and film reproducibility are the crucial parameters. We have developed a new capacitive coupling system for creative design and application of complex film systems in smartt materials. The internal setup of our deposition chamber using plan-parallel electrodes was derived from a typical capacitive coupling system, but our apparatus was equipped with many non-standard components. Plasma polymerization is a powerful tool for deposition of thin films whose physicochemical properties can be controlled in wide ranges and thus the technology enables tailoring of the material with respect to an application. However, a success of the coating technique depends on a suitable technological system, as the vacuum quality and film reproducibility are the crucial parameters. We have developed a new capacitive coupling system for creative design and application of complex film systems in smartt materials. The internal setup of our deposition chamber using plan-parallel electrodes was derived from a typical capacitive coupling system, but our apparatus was equipped with many non-standard components. (en) Technologie přípravy plazmových polymerů již nachází uplatnění v mnoha aplikacích, přesto mnohá vědecká pracoviště zdokonalují své depoziční systémy a hledají tak další možnosti využití této mocné metody. Většina PE CVD aparatur se potýká s problémy související s kvalitou vakua, reprodukovatelností přípravy vrstev a geometrickým omezením již vyrobeného systému. Z těchto důvodů vznikl návrh depozičního systému, jejíž vnitřní geometrické uspořádání reaktoru sice vychází z typické koncepce kapacitně vázanýých plan-paralelních systémů, aparatura je však vybavena velkým množstvím nadstandardních prvků. Speciální konstrukce spodní otočné elektrody umožňuje temperování vzorků v rozmezí teplot -100°C - 300°C. Diferenčně čerpaná komora se speciálním zásobníkemv koordinaci s otočnou elektrodou umožňuje vkládat vzorky magnetickým transporterem bez nárůstu tlaku v reaktoru a tedy bez jeho kontaminace. K systému je připojen RF-generátor o výkonu 1000W a v pulsním režimu tak díky posuvné horní %22shower%22 elektrodě u (cs)
Title	Capacitive coupling plasma system for thin film deposition Capacitive coupling plasma system for thin film deposition (en) Systém s kapacitně vázaným výbojem pro depozici tenkých vrstev (cs)
skos:prefLabel	Capacitive coupling plasma system for thin film deposition Capacitive coupling plasma system for thin film deposition (en) Systém s kapacitně vázaným výbojem pro depozici tenkých vrstev (cs)
skos:notation	RIV/00216305:26310/04:PU49381!RIV/2005/MSM/263105/N
http://linked.open.../vavai/riv/strany	1-4
http://linked.open...avai/riv/aktivita	P
http://linked.open...avai/riv/aktivity	P(ME 597), P(OC 527.110)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2005
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Přikryl, Radek Čech, Vladimír
http://linked.open.../riv/druhVysledku	D - Článek ve sborníku
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...titaPredkladatele	Vysoké učení technické v Brně / Fakulta chemická
http://linked.open...dnocenehoVysledku	556810
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/00216305:26310/04:PU49381
http://linked.open...riv/jazykVysledku	eng - angličtina
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	PECVD, plasma technology, capacitive coupling system (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	plasma technology PECVD capacitive coupling system
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[352C5C1EAB58]
http://linked.open...v/mistoKonaniAkce	Capo Miseno, Naples
http://linked.open...i/riv/mistoVydani	Turecko
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje	Plasma Polymers and Related Materials
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BL
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	2 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	3 (xsd:int)
http://linked.open...vavai/riv/projekt	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/OC%20527.110 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/ME%20597
http://linked.open...UplatneniVysledku	2004
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Přikryl, Radek Čech, Vladimír Hedbavny, Pavel
http://linked.open...vavai/riv/typAkce	EUR - Evropská
http://linked.open.../riv/zahajeniAkce	2004-10-27 (xsd:date)
number of pages	4 (xsd:int)
http://purl.org/ne...btex#hasPublisher	Neuveden
http://localhost/t...ganizacniJednotka	26310

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software