Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
rdfs:seeAlso
| |
Description
| - Equipment for precise particulars matching substrate fotomaskou for photolithography. It includes manipulators with přesnotí 0.5 um. The device is designed for 4-inch silicon wafer and the fixation device is placed precisely etched plate. (en)
- Zařízení pro přené sesouhlasení substrátu s fotomaskou pro fotolitografii. Obsahuje manipulátory s přesnotí 0,5 um. Zařízení je navrženo pro 4 palcové křemíkové desky a pro jejich fixaci je v zařízení umístěna přesně vyleptaná lamela.
- Zařízení pro přené sesouhlasení substrátu s fotomaskou pro fotolitografii. Obsahuje manipulátory s přesnotí 0,5 um. Zařízení je navrženo pro 4 palcové křemíkové desky a pro jejich fixaci je v zařízení umístěna přesně vyleptaná lamela. (cs)
|
Title
| - Micromanipulator for photolithography (en)
- Mikromanipulátor pro fotolitografii
- Mikromanipulátor pro fotolitografii (cs)
|
skos:prefLabel
| - Micromanipulator for photolithography (en)
- Mikromanipulátor pro fotolitografii
- Mikromanipulátor pro fotolitografii (cs)
|
skos:notation
| - RIV/00216305:26220/11:PR25671!RIV13-AV0-26220___
|
http://linked.open...avai/predkladatel
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(GA102/08/1546), P(KAN208130801), Z(MSM0021630503)
|
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...onomickeParametry
| - Celková cena: X?.- ---------------------------------------------- materiál nerezová ocel - mikroposuvy 3x - neodymové magnety 6x - nerezové lišty 2x - lamela - výroba: 20000 tis. Kč
|
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/00216305:26220/11:PR25671
|
http://linked.open...terniIdentifikace
| |
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - Micromanipulating. photolithography, silicon substrate (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...echnickeParametry
| - Zařízení slouží pouze pro potřeby LabSensNano, VUT, tj. v Laboratoři mikrosenzorů a nanotechnologií, dosud nebyla uzavřena smlouva na využití třetí stranou. Velikost zařízení: Zařízení se skládá kompaktního rámu v němž jsou umístěny 3 mikroposuvy. Dále 6 neodymových magnetů a 2x ocelové lišty pro fixaci masky
|
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Hubálek, Jaromír
- Hrdý, Radim
|
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |