Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - The aim of the present work is to characterise plasma deposited silicon containing diamond-ĺike films (DLC) by two experimental methods: by means of the commercial device equipped with CCD camera and by the method using a laser beam for the contact angle measurement. We found out, that addition of hexamethyldisiloxane into the gas mixture for DLC film deposition gives the possibility to modify the the wetting, sticking and mechanical properties of DLC films. (en)
- Plazmochemickou depozicí jsme připravili amorfní diamantu podobné ochranné vrstvy ze směsi metanu a hexamethyldisiloxanu. Na základě měření kontaktního úhlu jsme učili volnou povrchovou energii připravených vrstev. Kontaktní úhel byl stanoven metodou založenou na CCD kamerou nasnímaném profilu kapky a metodou využívající difrakce laserového paprsku v bodě styku kapaliny s pevným povrchem. Ukázali jsme, že přidáním HMDSO do smesi pro plazmovou depozici lze modifikovat volnou povrchovou energii a mechanické vlastnosti vrstev.
- Plazmochemickou depozicí jsme připravili amorfní diamantu podobné ochranné vrstvy ze směsi metanu a hexamethyldisiloxanu. Na základě měření kontaktního úhlu jsme učili volnou povrchovou energii připravených vrstev. Kontaktní úhel byl stanoven metodou založenou na CCD kamerou nasnímaném profilu kapky a metodou využívající difrakce laserového paprsku v bodě styku kapaliny s pevným povrchem. Ukázali jsme, že přidáním HMDSO do smesi pro plazmovou depozici lze modifikovat volnou povrchovou energii a mechanické vlastnosti vrstev. (cs)
|
Title
| - Stanovení povrchové energie tenkých vrstev nanášených v plazmatu vysokofrekvenčního výboje
- Stanovení povrchové energie tenkých vrstev nanášených v plazmatu vysokofrekvenčního výboje (cs)
- Determination of Surface Energy of Plasma Deposited Thin Films (en)
|
skos:prefLabel
| - Stanovení povrchové energie tenkých vrstev nanášených v plazmatu vysokofrekvenčního výboje
- Stanovení povrchové energie tenkých vrstev nanášených v plazmatu vysokofrekvenčního výboje (cs)
- Determination of Surface Energy of Plasma Deposited Thin Films (en)
|
skos:notation
| - RIV/00216224:14310/01:00004508!RIV08-MSM-14310___
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(GA202/00/P037), P(OC 527.20), Z(MSM 143100003)
|
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/00216224:14310/01:00004508
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - Contact angle measurement; surface energy; microhardness; PECVD; Diamond-like carbon (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...v/mistoKonaniAkce
| |
http://linked.open...i/riv/mistoVydani
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| |
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Buršíková, Vilma
- Brzobohatý, Oto
- Zajíčková, Lenka
- Subedi, Deepak Prasad
- Pryčková, Jana
|
http://linked.open...vavai/riv/typAkce
| |
http://linked.open.../riv/zahajeniAkce
| |
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
number of pages
| |
http://purl.org/ne...btex#hasPublisher
| - Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství. Ústav materiálových věd a inženýrství; Česká společnost pro nové materiály a technologie
|
https://schema.org/isbn
| |
http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |