About: Study of plasmachemical processes using microwave and optical spectroscopy

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Study of plasmachemical processes using microwave and optical spectroscopy Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt
rdfs:seeAlso	http://www.isvav.cz/projectDetail.do?rowId=GP202/01/P106
Description	Selected plasmachemical reactions in various types of discharges (low pressure radiofrequency discharge, low pressure DC discharge, low pressure microwave discharge, atmospheric pressure microwave torch, atmospheric pressure glow, etc.) will be studied b (en) Vybrané plazmochemické reakce budou studovány v různých typech výbojů (nízkotlaký vysokofrekvenční výboj, nízkotlaký stejnosměrný výboj, nízkotlaký mikrovlnný výboj, vysokotlaký mikrovlnný hořák, doutnavý výboj za atmosférického tlaku, atd.) za pomocí el
Title	Study of plasmachemical processes using microwave and optical spectroscopy (en) Studium plazmochemických procesů pomocí mikrovlnné a optické spektroskopie
skos:notation	GP202/01/P106
http://linked.open...avai/cep/aktivita	Post-graduate (doctorate) grants
http://linked.open...kovaStatniPodpora	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GP202%2F01%2FP106/celkovaStatniPodpora
http://linked.open...ep/celkoveNaklady	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/projekt/GP202%2F01%2FP106/celkoveNaklady
http://linked.open...datumDodatniDoRIV	2008-05-19 (xsd:date)
http://linked.open...i/cep/druhSouteze	VS - Veřejná soutěž ve výzkumu a vývoji
http://linked.open...ep/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open.../cep/fazeProjektu	1404962
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor	BL - Fyzika plasmatu a výboje v plynech
http://linked.open...hodnoceniProjektu	U - Uspěl podle zadání, tj. byly splněny cíle a jeho předpokládané výsledky uvedené ve smlouvě / rozhodnutí o poskytnutí podpory
http://linked.open.../cep/klicovaSlova	Neuvedeno. (en)
http://linked.open...ep/partnetrHlavni	Přírodovědecká fakulta
http://linked.open...inujicichPrijemcu	0 (xsd:int)
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu	1 (xsd:int)
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu	0 (xsd:int)
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV	28 (xsd:int)
http://linked.open...enychVysledkuVRIV	28 (xsd:int)
http://linked.open...iciPoslednihoRoku	2004
http://linked.open...atUdajeProjZameru	2004
http://linked.open.../vavai/cep/soutez	SGA02002GA-PD
http://linked.open...usZobrazovaneFaze	DUU
http://linked.open...ai/cep/typPojektu	P - Projekt výzkumu a vývoje financovaný ze státního rozpočtu
http://linked.open...jektu+dodavatelem	Řešení projektu přineslo nové poznatky o vlastnostech vysokofrekvenčně buzeného plazmatu a některých plazmochemických reakcích, především ve fázi dohasínání. Byly přitom využity nové metody buzení plazmatu a jeho diagnostiky. Byly studovány i procesy rea (cs)
http://linked.open...tniCyklusProjektu	ZBKU
is http://linked.open...vavai/riv/projekt of	Low Temperature Metallurgy of Tungsten in Plasma Reactors Hydrogen line broadening in afterglow observed by means of EPR Deposition of Hard carbon films and Its Diagnostics Film deposition in Parallel Plate RF Discharges Containing Hydrocarbons Optical Diagnostics of ICP Dischare During Synthesis of Tungsten Carbide Electron density measurements in afterglow of high power pulsed microwave discharge Optical diagnostics of inductively coupled RF discharge Advanced methods for deposition of thin films: monitoring, properties, application Measurement of concentration of N atoms in afterglow Electron density measurements in pulsed microwave discharge in nitrogen gas Diamond Growth on silicon and WC-Co by microwave plasma chemical vapor deposition Study of hydrocarbons decomposition in microwave discharge and mass spectrometry of radiofrequency discharges in liquids Plasmachemical nitridation of boron precursors Low temperature plasma metallurgy. Reduction of metals in plasma reactors. Simultaneous measurement of N and O densities in plasma afterglow by means of NO titration Simultaneous determination of N and O atom density in N2 - O2 plasma afterglow by NO titration Sem study of morphology of hard carbon films prepared by microwave plasma chemical vapor deposition. Study of mode transition in low pressure capacitive RF discharges in nitrogen Improved calibration procedure of an RF plasma impedance probe Increase od Dissociation Degree in Afterglow Due to Admixtures Increase of dissociation degree in afterglow due to admixtures Hard carbon films: Deposition and diagnostics Hard carbon films:Deposition and diagnistics. Interferometer Diagnostics of Nitrogen Microwave Pulse Discharge Production of WC and WTi in Inductively Coupled and Microwave plasma Reactor. Study of reaction between HMDSO and O atoms in afterglow Study of high power pulsed microwave discharge Study of high power pulsed microwave discharge
is http://linked.open...vavai/cep/projekt of	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GP202%2F01%2FP106/2001/orjk%3A14310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GP202%2F01%2FP106/2002/orjk%3A14310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GP202%2F01%2FP106/2003/orjk%3A14310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/GP202%2F01%2FP106/2004/orjk%3A14310

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software