Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
rdfs:seeAlso
| |
Description
| - Nové zdroje intenzívního koherentního krátkovlnného záření, tedy XUV/rtg. lasery s vysokoteplotním plazmatem nebo svazkem relativistických elektronů, představují nadějný nástroj přímého nanostrukturování povrchů různých materiálů, neboť mohou ablačně či desorpčně otisknout obrazec s detaily srovnatelnými s vlnovou délkou záření. Klíčovou výhodou XUV/rtg. laserů pro přípravu nanostruktur požadovaného profilu je unikátní kombinace krátké vlnové délky, vysokého stupně koherence a extrémního špičkového výkonu. Existence určité prahové fluence potřebné k přímému strukturování povrchu vyžaduje právě dostatek výkonu ve fokusovaném svazku. Ačkoliv zdroje typu vysokých harmonických nebo nekoherentní plazmové zdroje vyvíjené pro extrémní ultrafialovou lithografii mohou také posloužit k přenesení obrazce s detaily menšími než desetina mikrometru, nevyprodukují prostorovou nanostrukturu několika impulzy záření. Tento projekt je zaměřen na systematický výzkum vytváření nanostruktur na površích různých materiálů ozářených intenzívním krátkovlnným zářením a objasnění mechanismu jejich vzniku.
- The new sources of intense coherent short-wavelength radiation, i.e., plasma and e-beam based XUV/X-ray lasers, represent promising tools for the direct nano-patterning of solids, as they enable the ablation (desorption) printing of features with dimensions comparable to the wavelength. A key advantage of the XUV/X-ray lasers for fabrication of tailored nanostructures is the unique combination of exceptionally short wavelength, very good coherence, and high peak power. Certain thresholds for materials processing require XUV/X-ray sources to deliver enough fluence and thus sufficiently high power to the irradiated surface area. Although high-order harmonics and non-coherent sources developed for EUV lithography can also pattern material surfaces with nanometer precision, they cannot directly produce three-dimensional nanostructures using a few shots in a single processing step. In this project, a systematic investigation of spontaneously grown (LIPSS) and externally created (mask projection) nano-patterns on XUV/X-ray laser-irradiated surfaces is proposed. (en)
|
Title
| - Surface nanostructuring by extreme ultraviolet and X-ray laser radiation (en)
- Nanostrukturování povrchů extrémním ultrafialovým a rentgenovým laserovým zářením
|
skos:notation
| |
http://linked.open...avai/cep/aktivita
| |
http://linked.open...kovaStatniPodpora
| |
http://linked.open...ep/celkoveNaklady
| |
http://linked.open...datumDodatniDoRIV
| |
http://linked.open...i/cep/druhSouteze
| |
http://linked.open...ep/duvernostUdaju
| |
http://linked.open.../cep/fazeProjektu
| |
http://linked.open...ai/cep/hlavniObor
| |
http://linked.open...vai/cep/kategorie
| |
http://linked.open.../cep/klicovaSlova
| - nanostructures, solid surfaces, extreme ultraviolet radiation, X-rays, laser ablation, laser desorption, laser-induced periodic surface structures (LIPSS) (en)
|
http://linked.open...ep/partnetrHlavni
| |
http://linked.open...inujicichPrijemcu
| |
http://linked.open...cep/pocetPrijemcu
| |
http://linked.open...ocetSpoluPrijemcu
| |
http://linked.open.../pocetVysledkuRIV
| |
http://linked.open...enychVysledkuVRIV
| |
http://linked.open...lneniVMinulemRoce
| |
http://linked.open.../prideleniPodpory
| |
http://linked.open...iciPoslednihoRoku
| |
http://linked.open...atUdajeProjZameru
| |
http://linked.open.../vavai/cep/soutez
| |
http://linked.open...usZobrazovaneFaze
| |
http://linked.open...ai/cep/typPojektu
| |
http://linked.open...ep/ukonceniReseni
| |
http://linked.open...ep/zahajeniReseni
| |
http://linked.open...tniCyklusProjektu
| |
http://linked.open.../cep/klicoveSlovo
| - nanostructures
- X-rays
- extreme ultraviolet radiation
- laser ablation
- laser desorption
- solid surfaces
|
is http://linked.open...vavai/riv/projekt
of | |
is http://linked.open...vavai/cep/projekt
of | |