Projekt se zabývá využitím pokročilých tenkovrstvých plazmatických technologií ve vakuové a mikrovlnné technice, kde se očekává znatelný přínos v užitné hodnotě produktů a vylepšení jejich vlastností. Projekt je rozčleněn do tří základních okruhů výzkumu: 1) pokrytí mřížek výkonových elektronek s cílem získání nízké elektronové emisivity povrchu, 2) tepelně absorpční pokrytí anod výkonových elektronek s cílem maximálního pohlcení tepelného záření uvnitř elektronky povrchem anody, 3) pokovení funkčních povrchů mikrovlnných součástí ochranou vrstvou s ohledem na maximální stabilitu vlastností. V závěru projektu se předpokládá zavedení tenkovrstvých plazmatických technologií do výrobního procesu ve všech výše uvedených základních okruzích. (cs)
The project deals the utilization of an advanced thin-film plasma technology in a vacuum and microwave technique. It is expected a significant improvement on a serviceability of the final products. The project is segmented to three main researchadevelopment areas: 1) low-emissivity coating of the control grid of electrontube, 2) blacking of anod for enhancement of the thermal absorption, 3) metal-plating of the functional surface of microwave devices considering the long term stabilit (en)