About: Synthesis of new Si-O(N)-C materials by plasma enhanced CVD

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Synthesis of new Si-O(N)-C materials by plasma enhanced CVD Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt
Description	Cílem projektu je příprava nových Si-O-C:H polymerů variabilních ve své nanostruktuře i organicko-anorganickém charakteru a příprava tvrdých ochranných Si-O-C a Si-N-C vrstev vykazujících nízké vnitřní pnutí a dobrou adhezi k různým substrátům. Siloxanové polymery budou připravovány metodou PECVD ve vysokofrekvenčním plazmatu doutnavého výboje za použití organosilikonových reaktantů (hexametyldisiloxan, oktametylcyklotetrasiloxan, dekametylcyklopentasiloxan) a nízkého stupně bombardování ionty. Originalita navrhovaného přístupu spočívá v použití pulzního vf. výboje, což umožňuje změnou délky pulzu a dobou mezi pulzy měnit stupeň zachování původní struktury monomeru. Tvrdé Si-O-C a Si-N-C vrstvy budou připravovány v kapacitně a induktivně vázaném vf. výboji za významné asistence iontů. Zejména bude v tomto případě navázáno na předchozí úspěšné experimenty s depozicí nanokompozitních DLC:SiOx vrstev a jejich depozice bude optimalizována na různé druhy substrátů (sklo, kovy, plasty). Připravené vrstvy bu (cs) The purpose of the project is the synthesis of new Si-O-C:H polymers variable in their nanostructure and organic-inorganic character and the synthesis of hard protective Si-O-C and Si-N-C films exhibiting low internal stress and good adhesion to different substrates. Siloxane polymers will be prepared by PECVD in r.f. plasma of glow discharge with organosilicon reactants (hexamethyldisiloxan, oktamethylcyklotetrasiloxan, dekamethylcyklopentasiloxan) under low ion bombardment. The novelty of the proposedapproach consists in application of pulsed r.f. discharge that makes possible changes in monomer structure retention by variation of the duty cycle. Hard Si-O-C and Si-N-C films will be prepared in capacitively and inductively coupled r.f. discharge und er ion bombardment assistance. Namely the nanocomposite DLC:SiOx films will be prepared in connection with previous successful experiments and their deposition will be optimized for various substrate materials (glass, metals, plastics). Prepared films wi (en)
Title	Synthesis of new Si-O(N)-C materials by plasma enhanced CVD (en) Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou (cs)
http://linked.open...vai/cislo-smlouvy	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/smlouva/11674/2005-31
http://linked.open...lsi-vedlejsi-obor	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/JI
http://linked.open...avai/druh-souteze	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/druh-souteze/VS
http://linked.open...domain/vavai/faze	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/faze/35878666
http://linked.open...vavai/hlavni-obor	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/BL
http://linked.open...vai/vedlejsi-obor	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/JJ
http://linked.open...vavai/id-aktivity	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/aktivita/1K
http://linked.open.../vavai/id-souteze	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/soutez/SMSM2004001K3
http://linked.open...n/vavai/kategorie	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/kategorie/21
http://linked.open...vai/klicova-slova	plazmochemická depozice z plynné fáze, PECVD, polymery, tvrdé vrstvy, nanostrukturní materiály, nanokompozitní materiály, diagnostika plazmatu (en)
http://linked.open...avai/konec-reseni	2007-12-31 (xsd:date)
http://linked.open...nujicich-prijemcu	0 (xsd:integer)
http://linked.open...avai/poskytovatel	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/poskytovatel/MSM
http://linked.open...avai/start-reseni	2005-01-01 (xsd:date)
http://linked.open...ai/statni-podpora	952 (xsd:integer)
http://linked.open...vavai/typProjektu	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/typ/P
http://linked.open...ai/uznane-naklady	1513 (xsd:integer)
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu	1 (xsd:integer)
http://linked.open...cet-spoluprijemcu	0 (xsd:integer)
http://linked.open...ai/pocet-vysledku	12 (xsd:integer)
http://linked.open...ku-zverejnovanych	12 (xsd:integer)
is http://linked.open...ain/vavai/projekt of	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/2005/1K05025/orjk-14310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/2006/1K05025/orjk-14310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/2007/1K05025/orjk-14310 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/2008/1K05025/orjk-14310

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 92 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2025 OpenLink Software