Research and developement diffusion furances equipements for the LPCVD processes in semiconductor industry with improved operation control in temperature and gas flow functions. (en)
Výzkumná část projektu řeší matematický model topných kazet pro zařízení na nanášení tenkých vrstev ve výrobě polovodičových součástek, tak zvané LPCVD procesy. Z matematického modelu je odvozen algoritmus řízení teploty, umožňující přesnější dodržení nastaveného technologického režimu. Součástí řešení je nákup vědomostního balíku z pracoviště vysoké školy, které rovněž autorizuje odbornou stránku řešení. Vývojová část projektu řeší zabezpečení výroby topných kazet, senzorů teploty, jejich měřicích tras, periodickou rekalibraci a provozní testování, návazně na výsledky výzkumné části projektu. Další vývojová část projektu řeší technologický uzel pro dávkování velmi nízkých koncentrací plynných příměsí na bázi teplotou řízené reakce plynu s kapalinou. (cs)
Výzkum, vývoj a zavedení výroby inovovaných provedení tepelného a chemického uzlu v pecích pro atmosférické a LPCVD procesy HI-TECH polovodičových výrob fotovoltaických panelů. (cs)
Research, development and production of inovated temperature and chemical parts of furnaces for diffusion and LPCVD processes in Semiconductor industry. (en)