About: Study of hybrid deposition process and its application for thin film deposition     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
Description
  • Tento projekt je zaměřen na studium chování hybridního PVD-PECVD procesu, který bude využit pro přípravu nanokompozitních n-Ti:C/a-C:H a a-BCN:H materiálů. Jako zdroj uhlíku pro přípravu tenkých vrstev bude použit některý z plynných uhlovodíků dodávaný přímo do depozičního reaktoru, který zcela nahradí tradiční rozprašování uhlíkového terče. Hysterezní chování tohoto depozičního procesu a vlastnosti jím připravených vrstev budou srovnány s PVD procesem. Bude provedena srovnávací studie pro různé druhy uhlovodíků. Na základě provedených experimentů bude vylepšen stávající model reaktivního magnetronového naprašování. Tento model bude pracovat s nerovnoměrným tvarem hustoty výbojového proudu a bude rozšířen o interakci plynného uhlovodíku s povrchem magnetronové katody a stěnami depozičního reaktoru. (cs)
  • This project focuses on investigation of behaviour of hybrid PVD-PECVD process, which will be used for preparation of nanocomposite n-Ti:C/a-C:H and a-BCN:H materials. In this hybrid deposition process, a gaseous hydrocarbon will be used as a source of carbon instead of its conventional sputtering from magnetron target. Hysteresis behaviour of this process together with properties of deposited thin films will be investigated and compared with those of PVD process. Comparative study for two types of hydrocarbons will be performed. Advanced model of reactive sputtering assuming nonuniform discharge current density will be developed. This model will be extended to accommodate the interaction of gaseous hydrocarbon with all surfaces in the deposition (en)
Title
  • Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev (cs)
  • Study of hybrid deposition process and its application for thin film deposition (en)
http://linked.open...vai/cislo-smlouvy
http://linked.open...avai/druh-souteze
http://linked.open...domain/vavai/faze
http://linked.open...vavai/hlavni-obor
http://linked.open...vavai/id-aktivity
http://linked.open.../vavai/id-souteze
http://linked.open...n/vavai/kategorie
http://linked.open...vai/klicova-slova
  • magnetron sputtering; hybrid PVD-PECVD; hysteresis behaviour; thin film deposition; nanocomposite; BCN (en)
http://linked.open...avai/konec-reseni
http://linked.open...nujicich-prijemcu
http://linked.open...avai/poskytovatel
http://linked.open...avai/start-reseni
http://linked.open...ai/statni-podpora
http://linked.open...vavai/typProjektu
http://linked.open...ai/uznane-naklady
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu
http://linked.open...cet-spoluprijemcu
http://linked.open...ai/pocet-vysledku
http://linked.open...ku-zverejnovanych
is http://linked.open...ain/vavai/projekt of
Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 32 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software