About: Investigation of physical properties and applications of the low pressure plasma-chemical reactor with the system plasma jet channels for thin films deposition

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Investigation of physical properties and applications of the low pressure plasma-chemical reactor with the system plasma jet channels for thin films deposition Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt
Description	Proposal project deals with a study of plasma jet channels in the plasma chemical reactor with hollow cathodes during the deposition of thin films. Purpose of this study will be a better understanding of processes in the reactive plasma effecting growthprocesses of deposited films. This study should extend applicability and lead to optimization of these technologies. Hollow cathode discharge plasma will be generated by RF, modulated RF, DC, and pulsed DC sources. Plasma jet parameters will be measuredby emission spectroscopy. Spectrometer TRIAX Joben Yvon equipped with UV-VIS CCD detector and with fast response photomultiplier detector will be used for that purpose. In addition a measurement with RF compensated Langmuir probe will be employed aswell. Investigation of the plasma parameters will be done during the deposition of oriented polycrystalline ZnO thin films (c axis perpendicular to the substrate surface) and those similar films doped by Lithium. For that purpose, Zn or composed Zn (en) Předkládaný projekt se zabývá studiem proudících plazmatických kanálů v plazmochemickém reaktoru s dutými katodami při depozici tenkých vrstev. Účelem tohoto studia bude snaha o porozumění procesům v reaktivním plazmatu ovlivňujících růst tenkých vrstev.Toto studium by mělo umožnit lepší využití a optimalizaci těchto technologií. Výbojové plazma v dutých katodách a plazmatických kanálech bude buzeno RF, modulovaným RF, DC a DC pulzním zdrojem. Měření parametrů proudících kanálů bude realizováno pomocíemisní spektroskopie plazmatu spektrometrem TRIAX Joben Yvon vybaveného CCD detektorem citlivým v UV a viditelné oblasti a fotonásobičovým systémem s rychlou odezvou. Tyto experimenty budou dále doplněny měřením RF kompenzovanou Langmuirovou sondou.Měření parametrů plazmatu bude provedeno při depozici ZnO orientovaných polykrystalických vrstev (osa c kolmá k povrchu substrátu) a analogických vrstev dopovaných definovaným množstvím lithia. Pro tento účel bude použito reaktivní rozprašování Zn nebo (cs)
Title	Investigation of physical properties and applications of the low pressure plasma-chemical reactor with the system plasma jet channels for thin films deposition (en) Studium fyzikálních vlastností a aplikací nízkotlakého plazmochemického reaktoru se systémem plazmatických kanálů pro depozici tenkých vrstev (cs)
http://linked.open...lsi-vedlejsi-obor	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/CI
http://linked.open...avai/druh-souteze	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/druh-souteze/VS
http://linked.open...domain/vavai/faze	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/faze/21135043
http://linked.open...vavai/hlavni-obor	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/BL
http://linked.open...vai/vedlejsi-obor	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/obor/JP
http://linked.open...vavai/id-aktivity	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/aktivita/GP
http://linked.open.../vavai/id-souteze	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/soutez/SGA02002GA-PD
http://linked.open...n/vavai/kategorie	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/kategorie/1
http://linked.open...vai/klicova-slova	Neuvedeno. (en)
http://linked.open...nujicich-prijemcu	0 (xsd:integer)
http://linked.open...avai/poskytovatel	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/poskytovatel/GA0
http://linked.open...ai/statni-podpora	676 (xsd:integer)
http://linked.open...vavai/typProjektu	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/typ/P
http://linked.open...ai/uznane-naklady	1800 (xsd:integer)
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu	1 (xsd:integer)
http://linked.open...cet-spoluprijemcu	0 (xsd:integer)
http://linked.open...ai/pocet-vysledku	3 (xsd:integer)
http://linked.open...ku-zverejnovanych	3 (xsd:integer)
is http://linked.open...ain/vavai/projekt of	http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/2002/GP202/02/P021/ico-68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/2003/GP202/02/P021/ico-68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/2004/GP202/02/P021/ico-68378271 http://linked.opendata.cz/resource/domain/vavai/cep/ucast/2005/GP202/02/P021/ico-68378271

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 85 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software