About: Investigation of plasmochemical reactions processes during a plasmochemical deposition of thin film on solid state     Goto   Sponge   NotDistinct   Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Projekt, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

AttributesValues
rdf:type
Description
  • K vytváření tvrdých a supertvrdých vrstev využít rozpadajícího se plazmatu a vysokofrekvenčního výboje typu plasma jet. Prostudovat podmínky vzniku hexagonálního, kubického a amorfního BN. Vyšetřit základní vlastnosti depozitů a teplotní pole výbojů. Optimalizovat procesy. Pomocí elektronové paramagnetické rozonance měřit v dohasínajícím plazmatu reakční rychlostní konstanty, koeficienty stěnové rekombinace atomů H, N, O v závislosti na teplotě. Zaměřit se na reakce siloxanů a silazanů a s atomárním dusíkem a kyslíkem. Ověřit využití kombinovaného konvenčního hořáku se superponovaným vf polem jako atomizéru. Proměřit stupeň izotermičnosti v různých oblastech tohoto plazmatu. Diagnostiku plazmatu provádět i při depozicích a vyhodnocovat současně vlastnosti vzniklých substrátů. (cs)
  • Deposition of shard and ultra hard films in decay plasma discharges and in plasma of the unipolar high frequency discharges. The investigate conditions under which arise hexagonal, cubic and amorphous BN. To measure temperature field of the discharges and properties of the films too. Measurement of rate constants for different types of elementary and plasmochemical reactions and recombinations coefficients for hydrogen, nitrogen, oxygen as a function of temsperature usisng the electron paramagnetic resonance. To measure rate constant with emphassis on reactions of siloxans and silasans with atomic nitrogen and oxygen. To test a standard burner combined with superposed hf field as a new atomiser. To measured the isothermic degree in different points of this discharge. Properties of the films will be investigated, too. (en)
Title
  • Studium kinetiky plazmachemických reakcí a procesů depozice tenkých vrstev na pevných substrátech plazmachemickou cestou (cs)
  • Investigation of plasmochemical reactions processes during a plasmochemical deposition of thin film on solid state (en)
http://linked.open...lsi-vedlejsi-obor
http://linked.open...avai/druh-souteze
http://linked.open...domain/vavai/faze
http://linked.open...vavai/hlavni-obor
http://linked.open...vai/vedlejsi-obor
http://linked.open...vavai/id-aktivity
http://linked.open.../vavai/id-souteze
http://linked.open...n/vavai/kategorie
http://linked.open...nujicich-prijemcu
http://linked.open...avai/poskytovatel
http://linked.open...ai/statni-podpora
http://linked.open...vavai/typProjektu
http://linked.open...ai/uznane-naklady
http://linked.open...ai/pocet-prijemcu
http://linked.open...cet-spoluprijemcu
http://linked.open...ai/pocet-vysledku
http://linked.open...ku-zverejnovanych
is http://linked.open...ain/vavai/projekt of
Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024


Alternative Linked Data Documents: ODE     Content Formats:   [cxml] [csv]     RDF   [text] [turtle] [ld+json] [rdf+json] [rdf+xml]     ODATA   [atom+xml] [odata+json]     Microdata   [microdata+json] [html]    About   
This material is Open Knowledge   W3C Semantic Web Technology [RDF Data] Valid XHTML + RDFa
OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software