Description
| - The project proposes to concentrate on detailed study (modelling and experimental realization) of nanostructures, with target controlled dimensions from several nm and especially controlled organization on dimensions of tens to hundreds nm. The method of nanosphere lithography will be utilized, in combination with other methods as ion implantation, sputtering and deposition, electrolythic methods, iontophoresis, and sedimentation. The goal will be the preparation of both metallic (eg.Pd, Ni,Ag,Au), semiconducting (eg. Si,CdS,oxids-Fe,Zn), and possibly also dielectric nanostructures. Regulation of nanoparticle dimensions will be resolved using organic layers, micelar systems, growth stabilizators, and chemical ablation. To characterize the nanostructures of interest, a wide range of methods will be used, including HRTEM, SEM, AFM,STM, etc. Given structures will be studied in various optical and optoelectronic applications, in connection with both passive and active structures. (en)
- "Projekt je zaměřen na studium a realizaci reprodukovatelných postupů přípravy nanostruktur a nanomateriálů s cíleným řízením rozměrů a uspořádání. Nanočástice velikosti několika nm až desítek nm v statistickém (roztoky) a geometrickém uspořádaní vzdálenosti desítek až stovek nm. Bude využito molekulární litografie v kombinaci s dalšími metodami, jako iontové implantace, nanášení vf a termické; elektrolytické; iontoforézní; sedimentací. Pro řízení rozměrů částic budou využity procesy chemické přípravy ve vymezeném prostoru použitím struktur organických vrstev, micelárních systémů, stabilizátorů růstu, chemické ""ablace"" v dvousložkových organických systémech. Budou studovány kovové nanostruktury (Pd, Ni, Ag, Au a další vhodné) a polovodičové (Si, CdS, oxidy Fe, Zn a další vhodné). Pro charakterizaci nanostruktur bude použito dostupných metod např. analýzy HRTEM, SEM, AFM, STM, aj. Bude studována korelace mezi mírou uspořádání struktur a jejich elektrickými a optickými vlastnostmi." (cs)
|