| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| Description
| - Elektronová litografie je všeobecně uznávanou technikou v technologii mikroelektroniky pro generaci geometrických obrazců s detaily submikrometrových rozměrů. Při rozlišení na úrovni řádově 0.1um je možné využít tuto technologii i pro přípravu různých difraktivních struktur, které jsou schopny formovat vlnoplochy optických vln při využití jevu difrakce. Realizace difraktivních struktur však vyžaduje zvládnutí technologií a technik, které mají odlišnosti oproti mikroelektronickým strukturám. Tyto odlišnosti je možné charakterizovat 1) zásadně submikrometrovými detaily, 2) definovaným profilem reliéfu záznamového materiálu, 3) zpracováním velkého objemu dat (řádově GB), 4) nutností řešit rigorózně tzv. proximity efekt pro daný litograf a 5) dlouhodobým bezchybným chodem zařízení při zajištění stálosti jeho provozních parametrů během expozice. Projekt je zaměřen na řešení výše uvedených problematik, aby mohl být stávající litograf prakticky využit v oblasti difraktivní optiky. (cs)
- E-beam lithography is generally recognized and used tool in microelectronics to generate geometrical patterns with feture siye under one micrometer. Considering e-beam lithography with the resolution of 0.1um it is possible to use this technology also for the fabrication of the diffractive microstructures, which are able to form optical waves by using diffraction phenomenon. The realization of such structures however requiers special facilities and techniques which are different from those used in themicroelectronics technology. This differences could be characterize as follows: 1) diffractive structures are basically sub-micrometer structures, 2) it is necessary to study relief profile of the structure, 3) process enormous data volume (typically GB) in real time, 4) rigorously solve proximity effect in relation to a specific lithograph and 5) guarantee errorless function and operating parameters during a long time. The project is focused on solving the above mentioned problems. (en)
|
| Title
| - Submicrometer relief diffractive structures made by electron-beam lithography. (en)
- Elektronová litografie pro reliéfní submikrometrové difraktivní struktury (cs)
|
| http://linked.open...avai/druh-souteze
| |
| http://linked.open...domain/vavai/faze
| |
| http://linked.open...vavai/hlavni-obor
| |
| http://linked.open...vai/vedlejsi-obor
| |
| http://linked.open...vavai/id-aktivity
| |
| http://linked.open.../vavai/id-souteze
| |
| http://linked.open...n/vavai/kategorie
| |
| http://linked.open...vai/klicova-slova
| - optical diffractive structure; diffraction grating; synthetic relief structure; subwavelength structure; electron-beam lithography; microfavrication technology (en)
|
| http://linked.open...nujicich-prijemcu
| |
| http://linked.open...avai/poskytovatel
| |
| http://linked.open...ai/statni-podpora
| |
| http://linked.open...vavai/typProjektu
| |
| http://linked.open...ai/uznane-naklady
| |
| http://linked.open...ai/pocet-prijemcu
| |
| http://linked.open...cet-spoluprijemcu
| |
| http://linked.open...ai/pocet-vysledku
| |
| http://linked.open...ku-zverejnovanych
| |
| is http://linked.open...ain/vavai/projekt
of | |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)