| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| Description
| - Posuvná lavice slouží k přesnému nastavení substrátu v rovině při osvitu během litografické výroby struktur. Je využitelná pro osvit na gelovou masku nebo pro přímý osvit na finální substrát. Funkční vzorek vzniknul zejména pro přípravu jednoduchých mikroelektromechanických struktur ve funkci senzorů plynů (SAW struktury, nanášení aktivní substancí pro vodivostní senzory, dostavování a trimování mikromechanických struktur). Osvit probíhá pomocí objektivu a zvětšené předlohy na dané vlnové délce (tento osvit není součástí funkčního vzorku). Funkční vzorek umožňuje replikaci jedné struktury na větší plochu masky (substrátu) a automatizované nastavení intenzity a délky osvitu. Lavici je rovněž možno využít pro přímé vykreslování jednoduchých struktur do fotorezistu. Teoretické minimální rozlišení lavice v obou směrech je 3,5 µm (dáno stoupáním závitové tyče a počtem kroků motoru na otáčku), praktické rozlišení je 300 µm (dáno tuhostí celé konstrukce a rovinností vodicích tyčí) a opakovatelnost návratu do původní polohy je lepší než 10 um. Pro posuv je využit krokový motor 57HS09 (200 kroků na otáčku, až 1,3 Nm) a závitová tyč M4 o stoupání 0,7 mm na otáčku. Jezdec je na závitové tyči mechanicky předepnut pružinou tak, aby se eliminoval vliv tolerance vnějšího a vnitřního závitu tyče a matky. Kromě mechanické konstrukce lavice s krokovými motory je součástí funkčního vzorku také budicí obvod krokových motorů, ovládací jednotka a software pro ruční ovládání a ovládání pomocí PC.
- Posuvná lavice slouží k přesnému nastavení substrátu v rovině při osvitu během litografické výroby struktur. Je využitelná pro osvit na gelovou masku nebo pro přímý osvit na finální substrát. Funkční vzorek vzniknul zejména pro přípravu jednoduchých mikroelektromechanických struktur ve funkci senzorů plynů (SAW struktury, nanášení aktivní substancí pro vodivostní senzory, dostavování a trimování mikromechanických struktur). Osvit probíhá pomocí objektivu a zvětšené předlohy na dané vlnové délce (tento osvit není součástí funkčního vzorku). Funkční vzorek umožňuje replikaci jedné struktury na větší plochu masky (substrátu) a automatizované nastavení intenzity a délky osvitu. Lavici je rovněž možno využít pro přímé vykreslování jednoduchých struktur do fotorezistu. Teoretické minimální rozlišení lavice v obou směrech je 3,5 µm (dáno stoupáním závitové tyče a počtem kroků motoru na otáčku), praktické rozlišení je 300 µm (dáno tuhostí celé konstrukce a rovinností vodicích tyčí) a opakovatelnost návratu do původní polohy je lepší než 10 um. Pro posuv je využit krokový motor 57HS09 (200 kroků na otáčku, až 1,3 Nm) a závitová tyč M4 o stoupání 0,7 mm na otáčku. Jezdec je na závitové tyči mechanicky předepnut pružinou tak, aby se eliminoval vliv tolerance vnějšího a vnitřního závitu tyče a matky. Kromě mechanické konstrukce lavice s krokovými motory je součástí funkčního vzorku také budicí obvod krokových motorů, ovládací jednotka a software pro ruční ovládání a ovládání pomocí PC. (cs)
- Sliding bench can be used for precise adjustment in the plane during the lithographical exposure of the substrate. It is applicable for exposure on the gel mask or direct exposure to the final substrate. It was developed mainly for preparing of the simple microelectromechanical structures for the gas sensors (SAW structures, application of active substances for conductivity sensors, micromechanical structures adjustment and trimming). Light exposure is via the lens and enlarged pattern for a given wavelength (these optical devices are not a part of the sample). Functional sample allows replication of one structure over a larger area of the mask (substrate) and automated intensity and duration setting. The bench can also be used for direct writing of simple structures into the photoresist. Theoretical minimal resolution of benches in both directions is 3.5 microns (given by pitch threaded rod and the number of motor steps per revolution), the practical resolution is 300 µm (due to the stiffness of the structure and the flatness of guiding rods) and repeatability for returning to the original position is better than 10 microns. The stepper motors 57HS09 are used (200 steps per revolution, up to 1.3 Nm) and M4 threaded rod pitch of 0.7 mm per revolution. The viper on the threaded rod is mechanically biased by a spring so as to avoid the influence of the thread tolerances. In addition to the mechanical structure with the stepper motors it is also part of the device a driving circuit of stepper motors, controls and software for manual control and control via a PC. (en)
|
| Title
| - 2D posuvná lavice pro litografický osvit
- 2D posuvná lavice pro litografický osvit (cs)
- 2D sliding bench for lithographic exposure (en)
|
| skos:prefLabel
| - 2D posuvná lavice pro litografický osvit
- 2D posuvná lavice pro litografický osvit (cs)
- 2D sliding bench for lithographic exposure (en)
|
| skos:notation
| - RIV/68407700:21230/13:00210005!RIV14-MV0-21230___
|
| http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
| http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
| http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
| http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open...onomickeParametry
| - Celkové náklady na výrobu jsou cca 10 000 kč (materiál cca 5000 kč, frézování a sestavenícca 5000 kč)
|
| http://linked.open...titaPredkladatele
| |
| http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
| http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68407700:21230/13:00210005
|
| http://linked.open...terniIdentifikace
| |
| http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
| http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
| http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - 2D bench; optical litography (en)
|
| http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
| http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
| http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
| http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
| http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
| http://linked.open...echnickeParametry
| - Homtnost do 10 kg, rozměry cca 33 x 35 x 16 cm, Minimální rozlišení posuvu v obou směrech je 3,5 um, praktické rozlišení je 300 µm, opakovatelnost lepší než 10 um. Funkční vzorek využívá ČVUT, kontakt: A.Bouřa, FEL ČVUT, bouraa@fel.cvut.cz,224352335.
|
| http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Bouřa, Adam
- Husák, Miroslav
- Řezáč, Radek
|
| http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
| http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
| http://localhost/t...ganizacniJednotka
| |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)