About: Systém pro realizaci depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku

Facets (new session)
Description
Metadata
Settings
- owl:sameAs
- Inference Rule:

About: Systém pro realizaci depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku Goto Sponge NotDistinct Permalink

An Entity of Type : http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek, within Data Space : linked.opendata.cz associated with source document(s)

Attributes	Values
rdf:type	skos:Concept http://linked.opendata.cz/ontology/domain/vavai/Vysledek
Description	Systém využívá pro depozici tenkých transparentních vrstev na plastových substrátech plazmochemických reakcí vyvolaných za atmosférického tlaku RF výbojem napájecí elektrody. Podstatná je lineární soustava pracovních trysek opatřených na svém vnitřním, případně i vnějším povrchu dielektrickými bariérami. Trysky jsou napojeny svými kanály na jedné straně na přívod pracovního plynu a nasměrovány na povrch tělesa, kam se nanáší tenká vrstva. Soustava trysek je opásána prstencovou pracovní elektrodou napojenou přes tuner na výkonový RF generátor do pulsního modulátoru. Lze takto deponovat na otevřeném prostředí za atmosférického tlaku tenké vodivé vrstvy InxOy, SnOx, ZnO a ZnO dopované Al o tloušťkách 200 nm – 800 nm i více při teplotách nižších než 80 oC Systém využívá pro depozici tenkých transparentních vrstev na plastových substrátech plazmochemických reakcí vyvolaných za atmosférického tlaku RF výbojem napájecí elektrody. Podstatná je lineární soustava pracovních trysek opatřených na svém vnitřním, případně i vnějším povrchu dielektrickými bariérami. Trysky jsou napojeny svými kanály na jedné straně na přívod pracovního plynu a nasměrovány na povrch tělesa, kam se nanáší tenká vrstva. Soustava trysek je opásána prstencovou pracovní elektrodou napojenou přes tuner na výkonový RF generátor do pulsního modulátoru. Lze takto deponovat na otevřeném prostředí za atmosférického tlaku tenké vodivé vrstvy InxOy, SnOx, ZnO a ZnO dopované Al o tloušťkách 200 nm – 800 nm i více při teplotách nižších než 80 oC (cs) The system for deposition of thin transparent layers on plastic substrates employs plasma-chemical reactions using a radio-frequency (RF) discharge from feed electrode under the atmospheric pressure. The linear system of work nozzles, provided with dielectric barriers on their inner, respectively outer surface, is substantial. The nozzle channels are attached to the operational gas source at one side of nozzles and directed to the body surface to be covered by thin layer. The nozzle system is wrapped by ring work electrode connected via tuner to the high-power RF generator into the pulse modulator. Then the deposition of conductive layers (InxOy, SnOx, ZnO and ZnO doped by Al, thickness 200 nm – 800 nm and more) in an open area under an atmospheric pressure and temperatures below 80 oC is possible (en)
Title	Systém pro realizaci depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku Systém pro realizaci depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku (cs) System for deposition of thin layers under atmospheric pressure (en)
skos:prefLabel	Systém pro realizaci depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku Systém pro realizaci depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku (cs) System for deposition of thin layers under atmospheric pressure (en)
skos:notation	RIV/68378271:_____/07:00092352!RIV08-AV0-68378271
http://linked.open...avai/riv/aktivita	P Z
http://linked.open...avai/riv/aktivity	P(1M06002), Z(AV0Z10100522)
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat	2008
http://linked.open...aciTvurceVysledku	Čada, Martin Hubička, Zdeněk Kment, Štěpán Jastrabík, Lubomír Hrabovský, Milan Churpita, Olexandr Deyneka, Alexander
http://linked.open.../riv/druhVysledku	S - Prototyp, uplatněná metodika, funkční vzorek, autorizovaný software, výsledky aplikovaného výzkumu promítnuté do právních předpisů a norem, užitný vzor
http://linked.open...iv/duvernostUdaju	S - Úplné a pravdivé údaje nepodléhající ochraně podle zvláštních právních předpisů
http://linked.open...onomickeParametry	-
http://linked.open...titaPredkladatele	Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i.
http://linked.open...dnocenehoVysledku	454031
http://linked.open...ai/riv/idVysledku	RIV/68378271:_____/07:00092352
http://linked.open...terniIdentifikace	17139
http://linked.open...riv/jazykVysledku	cze - čeština
http://linked.open...vai/riv/kategorie	A - Do 5 mil. Kč
http://linked.open.../riv/klicovaSlova	thin layers; deposition; atmospheric pressure (en)
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo	deposition atmospheric pressure thin layers
http://linked.open...ontrolniKodProRIV	[254BA1A1AE55]
http://linked.open.../licencniPoplatek	Z - Poskytovatel licence na výsledek nepožaduje v některých případech licenční poplatek
http://linked.open...okalizaceVysledku	SLO UP a FZÚ AV ČR Olomouc
http://linked.open...in/vavai/riv/obor	BH
http://linked.open...ichTvurcuVysledku	7 (xsd:int)
http://linked.open...cetTvurcuVysledku	7 (xsd:int)
http://linked.open...vavai/riv/projekt	Optical structures, detection systems and relevant technologies for low photon number applications
http://linked.open...UplatneniVysledku	2007
http://linked.open...echnickeParametry	Technologie a metoda realizace depozice tenkých vrstev za atmosferického tlaku
http://linked.open...iv/tvurceVysledku	Hrabovský, Miroslav Jastrabík, Lubomír Kment, Štěpán Hubička, Zdeněk Čada, Martin Deyneka, Alexander Churpita, Olexander
http://linked.open...avai/riv/vlastnik	Univerzita Palackého Olomouc
http://linked.open...itiJinymSubjektem	A - Nabytí licence je nutné vždy
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer	Wave and Corpuscular Light Propagation, Optical Materials and Technology

Faceted Search & Find service v1.16.118 as of Jun 21 2024

Alternative Linked Data Documents: ODE Content Formats:

RDF

ODATA

Microdata

About

OpenLink Virtuoso version 07.20.3240 as of Jun 21 2024, on Linux (x86_64-pc-linux-gnu), Single-Server Edition (126 GB total memory, 58 GB memory in use)
Data on this page belongs to its respective rights holders.
Virtuoso Faceted Browser Copyright © 2009-2024 OpenLink Software