Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - We present measurements of in situ nanometric-resolution topographical modifications of thin niobium layers subjected to strong electric fields. The Nb layers, deposited on a fused silica substrate, are interferometrically flash probed using soft x-ray laser XRL at the wavelength of 21.2 nm.
- We present measurements of in situ nanometric-resolution topographical modifications of thin niobium layers subjected to strong electric fields. The Nb layers, deposited on a fused silica substrate, are interferometrically flash probed using soft x-ray laser XRL at the wavelength of 21.2 nm. (en)
- Bylo provedeno měření modifikací povrchu tenkých Nb vrstev vystavených silnému elektrickému poli s nanometrickým rozlišením. Nb vrstvy byly interferometricky sondovány rentgenovým laserem na vlnové délce 21.2 nm. (cs)
|
Title
| - Nanometric deformations of thin Nb layers under a strong electric field using soft x-ray laser interferometry
- Měření nanometrických deformací tenkých Nb vrstev za přítomnosti silného elektrického pole s pomocí rentgenové interferometrie (cs)
- Nanometric deformations of thin Nb layers under a strong electric field using soft x-ray laser interferometry (en)
|
skos:prefLabel
| - Nanometric deformations of thin Nb layers under a strong electric field using soft x-ray laser interferometry
- Měření nanometrických deformací tenkých Nb vrstev za přítomnosti silného elektrického pole s pomocí rentgenové interferometrie (cs)
- Nanometric deformations of thin Nb layers under a strong electric field using soft x-ray laser interferometry (en)
|
skos:notation
| - RIV/68378271:_____/05:00025706!RIV06-AV0-68378271
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(IAA1010014), P(LN00A100), Z(AV0Z10100523)
|
http://linked.open...iv/cisloPeriodika
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68378271:_____/05:00025706
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - x-ray laser; x-ray interferometry (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...odStatuVydavatele
| - US - Spojené státy americké
|
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Journal of Applied Physics
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...v/svazekPeriodika
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Kozlová, Michaela
- Mocek, Tomáš
- Rus, Bedřich
- Joyeux, D.
- Ros, D.
- Jamelot, G.
- Phalippou, D.
- Ballester, F.
- Carillon, A.
- Boussoukaya, M.
- Jacques, E.
- Präg R., Ansgar
- Kalmykow, M.
|
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
issn
| |
number of pages
| |