Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - Závěrečná zpráva se zabývá přehledem řešení tohoto projektu COST s nejdůležitějšími závěry: 1. Magnetronové naprašování, ECR PA CVD nebo tryskové systémy s nízkotlakou plazmou jsou vhodné pro depozici tribologických povlaků; 2. Všechny filmy z amorfního uhlíku nebo karbon-nitridové byly elastické, tvrdé a měly dobré tribologické vlastnosti.Tyto vlastnosti vylepšuje depozice při RF předpětí -100 (cs)
- Final report deals with review of solution of this COST project with main conclusions: 1. Magnetron sputtering, ECR PA CVD or low pressure plasma jet systems are suitable for preparation of tribological coatings; 2. All amorphous carbon and also carbon nitride films were elastic, hard, and have a good tribological properties.Application of RF bias -100 V improves a lot these properties
- Final report deals with review of solution of this COST project with main conclusions: 1. Magnetron sputtering, ECR PA CVD or low pressure plasma jet systems are suitable for preparation of tribological coatings; 2. All amorphous carbon and also carbon nitride films were elastic, hard, and have a good tribological properties.Application of RF bias -100 V improves a lot these properties (en)
|
Title
| - Příprava otěruvzdorných vrstev s nízkým třením pomocí magnetronů a RF plazma-chemických systémů s dutými katodami (cs)
- Preparation of wear resistant layers with low friction by magnetron sputtering and RF plasma assisted chemical vapor deposition systems with hollow cathodes (516.50)
- Preparation of wear resistant layers with low friction by magnetron sputtering and RF plasma assisted chemical vapor deposition systems with hollow cathodes (516.50) (en)
|
skos:prefLabel
| - Příprava otěruvzdorných vrstev s nízkým třením pomocí magnetronů a RF plazma-chemických systémů s dutými katodami (cs)
- Preparation of wear resistant layers with low friction by magnetron sputtering and RF plasma assisted chemical vapor deposition systems with hollow cathodes (516.50)
- Preparation of wear resistant layers with low friction by magnetron sputtering and RF plasma assisted chemical vapor deposition systems with hollow cathodes (516.50) (en)
|
skos:notation
| - RIV/68378271:_____/01:00024675!RIV06-AV0-68378271
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - P(OC 516.50), Z(AV0Z1010914)
|
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68378271:_____/01:00024675
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - magnetron sputtering, ECR PA CVD; low pressure plasma jet systems; amorphous carbon; carbon nitride films; tribological properties (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...i/riv/mistoVydani
| |
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| |
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |
number of pages
| |
https://schema.org/isbn
| |