| Attributes | Values |
|---|
| rdf:type
| |
| Description
| - Nanopolohovací stolky pro mikroskopii atomárních sil (AFM) musí splňovat několik důležitých úkolů během procesu skenování. Především musejí zajistit polohování ve dvou souřadných osách (X a Y) a zároveň nesou testovaný vzorek, který je pak postupně posouván v těchto dvou osách přes místo, kde je umístěna detekční sonda. V případě AFM mikroskopie jde o specializovaný hrot, kterým je provedena inspekce celého povrchu vzorku v ose Z, za současného synchronizovaného pohybu v osách X a Y. Délkové rozlišení v ose Z sahá díky principu AFM mikroskopie až do subnanometrové oblasti. Proto je vyžadováno rozlišení polohy vzorku v ose X a Y také obvykle nejméně v řádu nanometrů. Tento kritický parametr je však navíc komplikován požadavkem, aby rozsah polohování v obou osách X a Y byl srovnatelný s velikostí vzorku. Běžné komerční nanoposuvné stolky dosahují maximálního rozsahu vychýlení v řádu několika set mikrometrů, zatímco vhodný rozsah se pohybuje v řádu jednotek milimetrů. V případě uvedených komerčních stolků se zde naráží na principiální omezení piezoelektrických akčních členů, které jsou schopny sice spojitě polohovat s rozlišením v subnanometrové oblasti, avšak maximální výchylka je pouze několik jednotek mikrometrů daných mechanickými možnostmi prohnutí lamel vícenásobného piezo členu.
- Nanopolohovací stolky pro mikroskopii atomárních sil (AFM) musí splňovat několik důležitých úkolů během procesu skenování. Především musejí zajistit polohování ve dvou souřadných osách (X a Y) a zároveň nesou testovaný vzorek, který je pak postupně posouván v těchto dvou osách přes místo, kde je umístěna detekční sonda. V případě AFM mikroskopie jde o specializovaný hrot, kterým je provedena inspekce celého povrchu vzorku v ose Z, za současného synchronizovaného pohybu v osách X a Y. Délkové rozlišení v ose Z sahá díky principu AFM mikroskopie až do subnanometrové oblasti. Proto je vyžadováno rozlišení polohy vzorku v ose X a Y také obvykle nejméně v řádu nanometrů. Tento kritický parametr je však navíc komplikován požadavkem, aby rozsah polohování v obou osách X a Y byl srovnatelný s velikostí vzorku. Běžné komerční nanoposuvné stolky dosahují maximálního rozsahu vychýlení v řádu několika set mikrometrů, zatímco vhodný rozsah se pohybuje v řádu jednotek milimetrů. V případě uvedených komerčních stolků se zde naráží na principiální omezení piezoelektrických akčních členů, které jsou schopny sice spojitě polohovat s rozlišením v subnanometrové oblasti, avšak maximální výchylka je pouze několik jednotek mikrometrů daných mechanickými možnostmi prohnutí lamel vícenásobného piezo členu. (cs)
- We present a new concept of long-range positioning stage for scanning probe microscopy. We developed the stuck planchet moving stage where X-Y axes of positioning are controlled by two incremental piezoelectric actuators. We demonstrated moving range up to 7 mm of positioning in both axes. The absolute position of the stage is measured by two optical linear encoders. The resolution of the positioning is about 10 nm. (en)
|
| Title
| - Nano-stage with a large range of positionig for AFM microscopy (en)
- Nanoposuvné stolky s velkým rozsahem polohování pro AFM mikroskopii
- Nanoposuvné stolky s velkým rozsahem polohování pro AFM mikroskopii (cs)
|
| skos:prefLabel
| - Nano-stage with a large range of positionig for AFM microscopy (en)
- Nanoposuvné stolky s velkým rozsahem polohování pro AFM mikroskopii
- Nanoposuvné stolky s velkým rozsahem polohování pro AFM mikroskopii (cs)
|
| skos:notation
| - RIV/68081731:_____/13:00421281!RIV14-MPO-68081731
|
| http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
| http://linked.open...avai/riv/aktivity
| - I, P(ED0017/01/01), P(FR-TI1/241), P(GAP102/10/1813)
|
| http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
| http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
| http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
| http://linked.open...titaPredkladatele
| |
| http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
| http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68081731:_____/13:00421281
|
| http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
| http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - coherent lasers; interferometry; modelocked lasers (en)
|
| http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
| http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
| http://linked.open...v/mistoKonaniAkce
| |
| http://linked.open...i/riv/mistoVydani
| |
| http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Sborník příspěvků multioborové konference LASER53
|
| http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
| http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
| http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
| http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
| http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| |
| http://linked.open...vavai/riv/typAkce
| |
| http://linked.open.../riv/zahajeniAkce
| |
| number of pages
| |
| http://purl.org/ne...btex#hasPublisher
| - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v. v. i
|
| https://schema.org/isbn
| |
![[RDF Data]](/fct/images/sw-rdf-blue.png)
![[cxml]](/fct/images/cxml_doc.png)
![[csv]](/fct/images/csv_doc.png)
![[text]](/fct/images/ntriples_doc.png)
![[turtle]](/fct/images/n3turtle_doc.png)
![[ld+json]](/fct/images/jsonld_doc.png)
![[rdf+json]](/fct/images/json_doc.png)
![[rdf+xml]](/fct/images/xml_doc.png)
![[atom+xml]](/fct/images/atom_doc.png)
![[html]](/fct/images/html_doc.png)