Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - The e-beam writer BS600/TZ-0 is an electron-optical systém developed and optimized for production of relief microstructures with a sub-micron resolution. The e-beam writer is operating at a constant accelerating voltage of 15 kV, rectangular shaped beam of variable size adjustable in the range 25-3150 nm with a step of 25 nm, and a deflection module scanning the beam position within the field of 3.2 mm x 3.2 mm at resolution of 50 nm. Mutual orientation of shaping axes and deflection axes is 30 degree. (en)
- Elektronový litograf BS600/TZ-0 je elektronově-optické zařízení vyvinuté a optimalizované pro výrobu reliéfních mikrostrukltur se submikronovým rozlišením. Elektronový litograf pracuje s konstantním urychlovacím napětím 15 kV, pravoúhlým tvarovatelným svazkem, jehož velikost lze nastavit nezávisle v obou směrech od 25 nm do 3150 nm s krokem 25 nm, s vychylovacím polem 3,2 mm x 3,2 mm s krokem 50 nm. Vzájemná orientace souřadnic tvarování a vychylování je 30 stupňů.
- Elektronový litograf BS600/TZ-0 je elektronově-optické zařízení vyvinuté a optimalizované pro výrobu reliéfních mikrostrukltur se submikronovým rozlišením. Elektronový litograf pracuje s konstantním urychlovacím napětím 15 kV, pravoúhlým tvarovatelným svazkem, jehož velikost lze nastavit nezávisle v obou směrech od 25 nm do 3150 nm s krokem 25 nm, s vychylovacím polem 3,2 mm x 3,2 mm s krokem 50 nm. Vzájemná orientace souřadnic tvarování a vychylování je 30 stupňů. (cs)
|
Title
| - Elektronový litograf s urychlovacím napětím 15kV a tvarovaným svazkem do 25nm - BS600/TZ-0
- Elektronový litograf s urychlovacím napětím 15kV a tvarovaným svazkem do 25nm - BS600/TZ-0 (cs)
- E-Beam Writer at 15kV with Shaped Electron Beam of Minimum Size 25nm BS600/TZ-0 (en)
|
skos:prefLabel
| - Elektronový litograf s urychlovacím napětím 15kV a tvarovaným svazkem do 25nm - BS600/TZ-0
- Elektronový litograf s urychlovacím napětím 15kV a tvarovaným svazkem do 25nm - BS600/TZ-0 (cs)
- E-Beam Writer at 15kV with Shaped Electron Beam of Minimum Size 25nm BS600/TZ-0 (en)
|
skos:notation
| - RIV/68081731:_____/09:00336579!RIV10-AV0-68081731
|
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...onomickeParametry
| - Zmenšení velikosti svazku umožňuje dosáhnout vyššího rozlišení, což umožnilo realizovat struktury dříve nerealizovatelné.
|
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68081731:_____/09:00336579
|
http://linked.open...terniIdentifikace
| |
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open...vai/riv/kategorie
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - Electron Beam Lithography with Shaped Beam (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open.../licencniPoplatek
| |
http://linked.open...okalizaceVysledku
| - Ústav přístrojové techniky AV ČR, v.v
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...echnickeParametry
| - Velikost svazku: 25-3150 nm. Otočení souřadnic tvarování: -30 stupňů. Proudová hustota ve svazku (min – střed - max): 0,8 – 1,6 – 4,8 A/cm2.
|
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Horáček, Miroslav
- Matějka, Milan
- Urbánek, Michal
- Kolařík, Vladimír
- Matějka, František
- Král, Stanislav
|
http://linked.open...avai/riv/vlastnik
| |
http://linked.open...itiJinymSubjektem
| |
http://linked.open...n/vavai/riv/zamer
| |