Attributes | Values |
---|
rdf:type
| |
Description
| - High resolution imaging of doped areas in semiconductors with slow electrons is one of hot topics for both solid state physics and technology. Recent study employing the scanning low energy electron microscope demonstrated a high image contrast of dopants but only low attention has been devoted to the photoemission electron-microscopic (PEEM) imaging of these structures. Previous works ascribed the crucial role to local differences in the photoemission threshold while the present study claims the contrast more likely coming from local differences in absorption of hot electrons due to pair generation.
- High resolution imaging of doped areas in semiconductors with slow electrons is one of hot topics for both solid state physics and technology. Recent study employing the scanning low energy electron microscope demonstrated a high image contrast of dopants but only low attention has been devoted to the photoemission electron-microscopic (PEEM) imaging of these structures. Previous works ascribed the crucial role to local differences in the photoemission threshold while the present study claims the contrast more likely coming from local differences in absorption of hot electrons due to pair generation. (en)
- Zobrazení dopovaných oblastí polovodiče pomocí pomalých elektronů s vysokým rozlišením je jedním z aktuálních témat výzkumu ve fyzice pevné fáze i v technologiích. Nedávná práce používající rastrovací mikroskopii pomalými elektrony prokázala vysoký obrazový kontrast dopantů, nicméně jen malá pozornost byla doposud věnována fotoemisnímu elektronově mikroskopickému zobrazení těchto struktur. Jestliže minulé studie připisovaly rozhodující úlohu místním rozdílům v úrovni prahu fotoemise, zde předložené výsledky naznačují, že kontrast spíše pochází od lokální variability absorpce horkých elektronů prostřednictvím generace párů. (cs)
|
Title
| - Mapping of Dopants in Semiconductors: The PEEM Study
- Mapping of Dopants in Semiconductors: The PEEM Study (en)
- Mapování dopantů v polovodičích: studium pomocí PEEM (cs)
|
skos:prefLabel
| - Mapping of Dopants in Semiconductors: The PEEM Study
- Mapping of Dopants in Semiconductors: The PEEM Study (en)
- Mapování dopantů v polovodičích: studium pomocí PEEM (cs)
|
skos:notation
| - RIV/68081731:_____/05:00022411!RIV06-GA0-68081731
|
http://linked.open.../vavai/riv/strany
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivita
| |
http://linked.open...avai/riv/aktivity
| |
http://linked.open...vai/riv/dodaniDat
| |
http://linked.open...aciTvurceVysledku
| |
http://linked.open.../riv/druhVysledku
| |
http://linked.open...iv/duvernostUdaju
| |
http://linked.open...titaPredkladatele
| |
http://linked.open...dnocenehoVysledku
| |
http://linked.open...ai/riv/idVysledku
| - RIV/68081731:_____/05:00022411
|
http://linked.open...riv/jazykVysledku
| |
http://linked.open.../riv/klicovaSlova
| - dopant contrast; PEEM; semiconductors (en)
|
http://linked.open.../riv/klicoveSlovo
| |
http://linked.open...ontrolniKodProRIV
| |
http://linked.open...v/mistoKonaniAkce
| |
http://linked.open...i/riv/mistoVydani
| |
http://linked.open...i/riv/nazevZdroje
| - Proceedings - Microscopy Conference 2005 - Dreiländertagung /6./
|
http://linked.open...in/vavai/riv/obor
| |
http://linked.open...ichTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...cetTvurcuVysledku
| |
http://linked.open...vavai/riv/projekt
| |
http://linked.open...UplatneniVysledku
| |
http://linked.open...iv/tvurceVysledku
| - Müllerová, Ilona
- Frank, Luděk
- Gloskovskii, A.
- Schönhense, G.
- Elmers, H.
- Nepijko, S.
- Valdaitsev, D.
|
http://linked.open...vavai/riv/typAkce
| |
http://linked.open.../riv/zahajeniAkce
| |
issn
| |
number of pages
| |
http://purl.org/ne...btex#hasPublisher
| |